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J-GLOBAL ID：202002238526931015   整理番号：20A1762513

レーザ直接描画を用いたグレイスケールリソグラフィにおける厚膜レジストの評価

Evaluation of Thick-Film Photoresist for Grayscale Lithography Utilizing Direct Laser Writing

著者 (4件)： 庄子征希 (東北大学マイクロシステム融合研究開発センター) ,  上瀧英郎 (ハイデルベルグ・インストルメンツ(株)) ,  森山雅昭 (東北大学マイクロシステム融合研究開発センター) ,  戸津健太郎 (東北大学マイクロシステム融合研究開発センター)
資料名： 電気学会論文誌 E  (IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines)
巻： 140  号： 5  ページ： 113-118(J-STAGE)  発行年： 2020年 
JST資料番号： L3098A  ISSN： 1341-8939  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： グレイスケールリソグラフィー用の厚膜ポジ形フォトレジストの評価について報告する。フォトレジストの目標厚さは10~20μmであり,これは微細構造に対する一つの最も一般的な範囲である。精密直接レーザ描画装置であるDWL2000CEをグレイスケールリソグラフィーに利用した。露光量補正を用いて各フォトレジストのプロファイル可制御性を評価するために,長さ100μmの256のグレイスケール傾斜パターンをガラス基板上に作製し,共焦点顕微鏡で測定した。露光量補正により,フォトレジストのグレイスケール値と残留厚さとの間の線形の関係を実現した。各フォトレジストに対する露光量補正の最適化データを用いて,三次元微細構造として1024のグレイスケールマイクロレンズアレイパターンをガラス基板上に作製するのに成功した。マイクロレンズの一つのプロファイルの測定値と直径80μmで高さ16μmのマイクロレンズの設計球面プロファイルとの間の作製誤差は,中心から10μm以内で0.2μm未満であった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *レーザリソグラフィー ,  *グレースケール ,  *厚膜 ,  *フォトレジスト ,  微細構造 ,  アレイ ,  基板 ,  電気装置部品 ,  光学素子 ,  回路パターン形成
準シソーラス用語： *レーザ直接描画 ,  三次元構造 ,  ポジティブフォトレジスト ,  マイクロレンズアレイ ,  ガラス基板 ,  回折光学素子

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

引用文献 (11件)：

• (1) A.-L. Coutrot, E. Dufour-Gergam, J.-M. Quemper, E. Martincic, J.-P. Gilles, J.-P. Grandchamp, M. Matlosz, A. Sanchez, L. Darasse, and J.-C. Ginefri : “Copper micromoulding process for NMR microinductors realization”, Sens. Actuators A, Vol. 99, pp. 49-54 (2002)
• (2) Y. Pang, Y. Shu, M. Shavezipur, X. Wang, M. A. Mohammad, Y. Yang, H. Zhao, N. Deng, R. Maboudian, and T.-L. Ren : “3D stretchable arch ribbon array fabricated via grayscale lithography”, Sci. Rep., Vol. 6, 28552 (2016)
• (3) X. Ma, Y. Kato, F. Kempen, Y. Hirai, T. Tsuchiya, F. Keulen, and O. Tabata : “Experimental study of numerical optimization for 3-D microstructuring using DMD-based grayscale lithography”, J. Microelectomech. Syst., Vol. 24, No. 6, pp. 1856-1867 (2015)
• (4) 駒野博司:「レジスト材料」, 表面技術, Vol. 46, No. 9, pp. 778-783 (1995)
• (5) T. Lin, C. Chen, J. Yang, and Y. Liao : “A dual-directional light-control film with a high-sag and high-asymmetrical-shape microlens array fabricated by a UV imprinting process”, J. Micromech. Microeng., Vol. 18, p. 095029 (2008)

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザ直接描画 ,  厚膜 ,  レジスト ,  評価