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J-GLOBAL ID:202002241080867677   整理番号:20A0994094

分子軌道-分子動力学計算によるHFO1123の飽和密度および表面張力計算

Molecular Orbital-Molecular Dynamics Simulation for Predicting HFO1123 Saturation Density and Surface Tension
著者 (4件):
資料名:
巻: 37  号:ページ: 81-88  発行年: 2020年03月31日 
JST資料番号: X0662A  ISSN: 1344-4905  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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低GWP冷媒HFO1123と基本構造を同じくするエチレンを取り上げ,分子動力学計算によって気液平衡系を再現し,飽和密度と表面張力の予測を試みた.エチレンの力場にはOPLS-AAをHFO1123の力場にはOPLS-AA/LとGAFFを併用した.ただしHFO1123は極性分子であるため,分子軌道計算により予め電荷の値を求める事とした.飽和液密度の計算結果は,大きく電荷の値によって変化し,B3LYP/6-31G**レベルの計算で求まる電荷を用いる場合に,最も測定値と一致する事が分かった.エチレンは高温域で気液密度差と表面張力を共に過少評価する事が分かった.一方HFO1123は,飽和密度は測定値と良く一致するものの,低温で表面張力が幾分過大に計算されることが分かった.HFO1123の解析精度を向上させるためには,分子配置と応力の両者を的確にするポテンシャルの修正方法を見出す必要がある.(著者抄録)
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分類 (1件):
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冷媒,ブライン 
物質索引 (1件):
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引用文献 (18件):
  • 1) Raabe, G., Molecular Modeling of Fluoro Propene Refrigerants, J. Phys. Chem. B, 2012, 116, pp. 5744- 5751.
  • 2) Houriez, C., Masella, M., Kondou, C., Higashi, Y., Elabbadi, J. and Coquelet, C., Molecular Simulation for Surface Tension of New Low GWP Working Fluids, The 25th IIR Int. Cong. Refrig., 2019, no. 060.
  • 3) Valiev, M., Bylaska, E.J., Govind, N., Kowalski, K., Straatsma, T.P., Van Dam, H.J.J., Wang, D., Nieplocha, J., Apra, E., Windus, T.L. and De Jong, W.A., NWChem: A Comprehensive and Scalable Open-Source Solution for Large Scale Molecular Simulations, Comput. Phys. Commun., 2010, 181, pp. 1477-1489.
  • 4) Kaminski, G.A., Friesner, R.A., Tirado-Rives, J. and Jorgensen, W.L., Evaluation and Reparametrization of the OPLS-AA Force Field for Proteins via Comparison with Accurate Quantum Chemical Calculations on Peptides, J. Phys. Chem. B, 2001, 105, pp. 6474-6487.
  • 5) Jorgensen, W. L., Maxwell, D.S. and Tirado-Rives, J., Development and Testing of the OPLS All-Atom Force Field on Conformational Energetics and Properties of Organic Liquids, J. Am. Chem. Soc., 1996, 118, pp. 11225-11236.
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