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J-GLOBAL ID：202002251459470091   整理番号：20A0588980

集束イオンビームに基づく再堆積を効率的に除去することによる高品質Fresnelゾーンプレートの作製【JST・京大機械翻訳】

Fabricating high-quality Fresnel zone plates by efficiently eliminating redeposition based on focused ion beam

著者 (8件)： Chen Jie (Fudan University, Shanghai Engineering Center of Ultra-Precision Optical Manufacturing, Shanghai, China) ,  Chen Jie (China Academy of Engineering Physics, Institute of Materials, Jiangyou, China) ,  Wang Junhua (Fudan University, Shanghai Engineering Center of Ultra-Precision Optical Manufacturing, Shanghai, China) ,  Ma Bangjun (China Academy of Engineering Physics, Institute of Materials, Jiangyou, China) ,  Wang Xiaolong (China Academy of Engineering Physics, Institute of Materials, Jiangyou, China) ,  Yuan Dengpeng (China Academy of Engineering Physics, Institute of Materials, Jiangyou, China) ,  Liao Junsheng (China Academy of Engineering Physics, Institute of Materials, Jiangyou, China) ,  Xu Min (Fudan University, Shanghai Engineering Center of Ultra-Precision Optical Manufacturing, Shanghai, China)
資料名： Optical Engineering  (Optical Engineering)
巻： 58  号： 8  ページ： 087104  発行年： 2019年 
JST資料番号： B0577B  ISSN： 0091-3286  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 要約。Fresnelゾーンプレート(FZP)は,極端紫外およびX線顕微鏡のための重要な光学的物体であり,その両方は,それらの高い空間分解能と大きな侵入深さのために強力なツールである。FZPの製造は,狭い外部ゾーンと大きなアスペクト比を達成するために高い精度を必要とするので挑戦的である。集束イオンビーム(FIB)は,その精度,迅速性,およびマスクフリーの本質に対する電子ビームリソグラフィの潜在的な代替法として実際に実証されている。しかし,FIBプロセスにおける一般的な再堆積効果は,設計されたものから実際のパターンを歪ませる主な障害であり,特に,100nmの最も外側のゾーン幅と2を超えるアスペクト比をもつFZPに対しては,その影響は大きい。著者らは,FZP製作中にその場再堆積を除去するための単一画素線支援スパッタリング(SLAS)として注目される効率的な方法を提案した。イオン注入量を支配するパラメータを系統的に最適化し,特にSLASの位置を最適化することにより,100nmまでの最大帯域幅,垂直側壁,3までのアスペクト比および1.5時間で38μmの直径をもつ高品質FZPを得ることに成功した。SLASの応用はまた,ナノ構造を微細に調節するための他のFIBプロセスに対する有益な指針を提供する。Copyright 2019 Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： スパッタリング ,  ナノ構造 ,  アスペクト比 ,  帯域幅 ,  空間分解能 ,  X線顕微鏡 ,  極端紫外線 ,  電子ビームリソグラフィー ,  侵入度 ,  *集束イオンビーム ,  イオン注入 ,  画素 ,  最適化
準シソーラス用語： *Fresnelゾーンプレート ,  *高品質 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Fresnelゾーンプレート ,  大アスペクト比 ,  集束イオンビーム ,  再堆積効果

分類 (3件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 集束イオンビーム ,  高品質 ,  Fresnelゾーンプレート ,  作製