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J-GLOBAL ID:202002252363049629   整理番号:20A0487435

ミスト化学蒸着により成長させたm面サファイア基板上のSnドープα-Ga_2O_3膜の電気的性質【JST・京大機械翻訳】

Electrical Properties of Sn-Doped α-Ga2O3 Films on m-Plane Sapphire Substrates Grown by Mist Chemical Vapor Deposition
著者 (6件):
資料名:
巻: 217  号:ページ: e1900632  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0774A  ISSN: 1862-6300  CODEN: PSSABA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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ミスト化学蒸着(ミストCVD)によるm面サファイア上の導電性Snドープα-Ga_2O_3膜の成長と電気的性質を示した。結晶性は,c面サファイア上の以前に報告されたα-Ga_2O_3膜と比較してまだ劣っているが,m面サファイア基板上の高結晶性α-Ga_2O_3膜は,二段階成長法を適用することにより成長した。Snドープα-Ga_2O_3膜のキャリア濃度を,ソース溶液中のSn/Ga濃度比を変えることにより,10~17~10~19cm-3の範囲で制御した。2μmの厚さをもつm面サファイア上のα-GA_2O_3膜は65cm2(Vs)-1の高い移動度を示し,c面サファイア上に成長させた膜において以前に報告された24cm2(Vs)-1よりはるかに高い。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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半導体薄膜 

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