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J-GLOBAL ID：202002253825915594   整理番号：20A1986430

2.イオン液体中の電極近傍における金属イオン拡散のin situ計測

In situ measurement of diffusion behavior of metal ion close to electrode in ionic liquid

著者 (1件)： 今西哲士 (大阪大学)
資料名： 電気化学
巻： 88  号： 2  ページ： 109-113(J-STAGE)  発行年： 2020年 
JST資料番号： G0072B  ISSN： 2433-3255  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・イオン液体,BMIM-TFSAにAg-TFSAを溶かした場合の電極界面近傍での金属イオンの拡散についての,走査型電気化学光電子分光装置を用いた測定。
・Ag⁺イオンの拡散挙動がStokes-Einstein式に従わず,電極に溶質イオンが近づくにつれ,拡散係数が急激に増加するためにおこる,溶質濃度が極めて低い欠乏層の形成。
・Ag⁺イオンの拡散係数が,低濃度領域で急激に増加することを説明できる,ホッピング拡散係数項と通常拡散項の線形結合で表すことのできる見かけの拡散係数のモデル。
・Ag⁺/BMI-TFSA溶液にLi⁺を添加することによる,有効ホール濃度の制御を用いた,ホッピング拡散の寄与の制御とこれを利用したAg電析物の形状の制御。

シソーラス用語： *イオン液体 ,  金属イオン ,  銀化合物 ,  *イオン拡散 ,  拡散係数 ,  数学モデル ,  リチウム化合物 ,  キャリア密度 ,  形状制御 ,  *電着 ,  光電子スペクトル ,  *界面 ,  固液界面 ,  添加物効果 ,  リチウムイオン ,  銀イオン ,  正孔濃度 ,  サーボ制御
準シソーラス用語： ホール濃度 ,  *電極界面

分類 (3件)： 電極過程  (CB07040U) ,  液体の輸送現象一般  (BL06011A) ,  融解塩  (CB05050R)

物質索引 (1件)： [Bmim][TFSA]

引用文献 (19件)：

• 1) M. Mezger, H. Schroder, H. Reichert, S. Schramm, J. S. Okasinski, S. Schoder, V. Honkimaki, M. Deutsch, B. M. Ocko, J. Ralston, M. Rohwerder, M. Stratmann, and H. Dosch, Science, 17, 424 (2008).
• 2) T. Iimori, T. Iwahashi, H. Ishii, K. Seki, Y. Ouchi, R. Ozawa, H. Hamaguchi, and D. Kim, Chem. Phys. Lett., 389, 321 (2004).
• 3) K. Motobayashi, K. Minami, N. Nishi, T. Sakka, and M. Osawa, J. Phys. Chem. Lett., 4, 3110 (2013).
• 4) R. Atkin and G. Warr, J. Phys. Chem. C, 111, 5162 (2007).
• 5) A. W. Taylor, P. Licence, and A. P. Abbott, Phys. Chem. Chem. Phys., 13, 10147 (2011).

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン液体 ,  近傍 ,  金属イオン ,  拡散 ,  計測