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J-GLOBAL ID:202002256437144328   整理番号:20A2052184

光のスピンHall効果に基づく偏光解析法の開発(第四報)

Development of Ellipsometry Based on Spin Hall Effect of Light (4th report)-Analytical calculation of surface roughness measurement-
著者 (4件):
資料名:
巻: 2020  号: 秋季(CD-ROM)  ページ: ROMBUNNO.D0206  発行年: 2020年08月20日 
JST資料番号: Y0914A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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・ナノデバイスの表面粗さの測定方法に関して既存方法は機械的回転誤差などにより困難であり,光のスピンHall効果(SHEL)に基づく偏光解析法の開発を目的。
・光の表面反射前後の偏光状態変化によるSHELに基づく表面粗さ測定原理を説明。
・SHELのシフトは,表面粗さと関連し,SHELシフトの測定により,1次及び2次増幅定式から表面粗さが求まることを説明し,偏光子を用いた実験装置を製作し実証実験を実施。
・数値解析と実験によって,提案法によって表面粗さが直接的に測定可能なことを説明。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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準シソーラス用語:
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分類 (3件):
分類
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長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  ,  偏光,複屈折,光学回転  ,  光学情報処理 
引用文献 (4件):
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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