文献

J-GLOBAL ID：202002256557774635   整理番号：20A0073400

ナノテクノロジー設備供用拠点(大阪大学)

Achievements and Future Development by Ultra-High Voltage Electron Microscopes and Cryo-TEM in Nanotechnology Open Facilities of Research Center for Ultra-High Voltage Electron Microscopy, Osaka University

著者 (1件)： 保田英洋 (大阪大学超高圧電子顕微鏡センター)
資料名： まてりあ  (Materia Japan)
巻： 58  号： 12  ページ： 738-745(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： F0163A  ISSN： 1340-2625  CODEN： MTERE2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・大阪大学微細構造解析プラットフォームは,超高圧電子顕微鏡センターにより実施されており,無機・金属材料から生体・高分子にいたる試料の作製と観察に対応しており,本稿では,特徴的な主要設備の概要,共用による研究実績を紹介。
・主要設備として,3MV超高圧電子顕微鏡,電子線トモグラフィー,1MVクライオ超高圧走査透過電子顕微鏡,300kVクライオ電子顕微鏡,FIB-SEM複合ビーム装置について概説。
・研究実績として,人工衛星搭載用デバイスとして期待されているAlGaN/GaN HEMTの超高圧電子顕微鏡内MeV電子照射に対する耐放射線性の評価,クライオ電子顕微鏡によるC60ポリマの微細構造解析を紹介。

シソーラス用語： ナノテクノロジー ,  共同利用 ,  研究開発 ,  研究施設 ,  行政機関 ,  産学協同 ,  *微細構造 ,  *高圧電子顕微鏡 ,  トモグラフィー ,  透過型電子顕微鏡 ,  走査電子顕微鏡 ,  半導体集積回路 ,  フラーレンC60 ,  毛 ,  耐放射線性
準シソーラス用語： *ナノテクノロジープラットフォーム ,  大阪大学 ,  微細構造解析 ,  超高圧電子顕微鏡 ,  電子線トモグラフィー ,  cryo-TEM ,  FIB-SEM ,  HEMT集積回路 ,  C60ポリマー ,  C60 ,  毛髪

著者キーワード (5件)： ultra-high voltage electron microscope ,  cryo-transmission electron microscope ,  tomography ,  in-situ observation ,  high temporal and spacial resolution

分類 (2件)： 顕微鏡法  (BK01040E) ,  研究開発  (AA03000V)

引用文献 (6件)：

• (1) H. Fujita, T. Tabata, K. Yoshida, N. Sumida and S. Katagiri: Jpn. J. Appl. Phys., 11(1972), 1522-1536.
• (2) H. Fujita and T. Tabata: Jpn. J. Appl. Phys., 12(1973), 471-472.
• (3) 高橋俊江ら:第24回日本色素細胞学会学術大会口頭発表,(2012).
• (4) H. Sasaki, T. Hisaka, K. Kadoiwa, T. Oku, S. Onoda, T. Ohshima, E. Taguchi and H. Yasuda: Microelectronics Reliability, 81(2018), 312-319.
• (5) H. Masuda, J. Onoe and H. Yasuda: Carbon: 81(2014), 842-846.

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノテクノロジー ,  設備 ,  供用 ,  拠点