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J-GLOBAL ID:202002264337219197   整理番号:20A1114683

水素化非晶質Siで表面不動態化した歪んだGeオン絶縁体からの光ルミネセンスの増強【JST・京大機械翻訳】

Enhanced photoluminescence from strained Ge-on-Insulator surface-passivated with hydrogenated amorphous Si
著者 (7件):
資料名:
巻: 115  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: W1055A  ISSN: 1369-8001  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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歪んだGeからの発光特性に及ぼす水素化非晶質Si(a-Si:H)層の堆積によるGe-オン-インシュレータ(GOI)作製とその表面不動態化の影響を調べた。GOI製作は室温光ルミネセンス(PL)の劇的な増強をもたらすことを示した。起源の一つは歪緩和により必然的に形成された欠陥Ge層の除去である。また,a-Si:H層による表面不動態化は,a-Si:Hのドーパント型,pまたはnがGeのそれと一致することを示すPL強度をさらに高めることができることを見出した。結果として,成長したGe-on-Siと比較して15倍までのPL強度増強を得た。これは,a-Si:Hで不動態化されたGOIがSiプラットフォーム上のGeベース高効率発光体に対する有望な構造であることを示す。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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太陽電池 

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