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J-GLOBAL ID：202002267020256565   整理番号：20A0007777

アークイオンめっき法を用いたアルミニウム合金基板上に堆積した窒化クロム被覆における残留応力の測定【JST・京大機械翻訳】

Measurement of the residual stress in chromium nitride coatings deposited on an aluminum alloy substrate using arc ion plating method

著者 (4件)： Kusaka Kazuya (Institute of Technology and Science, Tokushima University, 2-1, Minamijosanjima, Tokushima, Tokushima 7708506, Japan) ,  Shirasaka Kenta (Graduate School of Advanced Technology and Science, Tokushima University, 2-1, Minamijosanjima, Tokushima, Tokushima 7708506, Japan) ,  Yonekura Daisuke (Institute of Technology and Science, Tokushima University, 2-1, Minamijosanjima, Tokushima, Tokushima 7708506, Japan) ,  Tanaka Yuta (Materials Department, Research Laboratory, IHI Corporation, 1, Shin-nakahara-cho, Isogo-ku, Yokohama, Kanagawa 235-8501, Japan)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 37  号： 6  ページ： 062916-062916-5  発行年： 2019年 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 異なるバイアス電圧と異なる厚さのアークイオンプレーティング法を用いて,Al合金基板上に窒化クロム(CrN)被覆を堆積した。これらの試料の残留応力を,被覆中のCrN結晶が非配向であるため,sin2ψ法を用いてX線回折により測定した。CrN被覆を横切る応力勾配を,曲線2θ-sin2ψ図から計算した。低バイアス電圧で蒸着したCrN被覆の場合,基板界面で形成された圧縮残留応力はCrN被覆の表面での応力よりも大きかった。逆に,高バイアス電圧で蒸着したCrN被覆の場合,CrN被覆の表面上の圧縮残留応力は基板との界面上の応力よりも大きかった。高バイアス電圧で蒸着したCrN被覆において,CrN被覆表面上の非常に大きな圧縮残留応力は,被覆厚さの増加とともに減少した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *残留応力 ,  結晶 ,  界面 ,  X線回折 ,  *アルミニウム合金 ,  *被覆 ,  応力勾配 ,  *窒化クロム ,  残留圧縮応力 ,  *真空アーク蒸着
準シソーラス用語： 圧縮残留応力 ,  バイアス電圧 ,  *アークイオンプレーティング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： アーク ,  イオンめっき法 ,  アルミニウム合金 ,  堆積 ,  窒化クロム ,  残留応力