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J-GLOBAL ID：202002268122888895   整理番号：20A2365669

酸素分圧制御による室温で成長させたFe_2O_3ドープNiOエピタキシャル薄膜の結晶構造の修正【JST・京大機械翻訳】

Modifying the crystal structures of Fe₂O₃-doped NiO epitaxial thin films grown at room temperature by controlling the oxygen partial pressure

著者 (18件)： Seo Okkyun (Synchrotron X-ray Group, Research Center for Advanced Measurement and Characterization, National Institute for Materials Science (NIMS), Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan) ,  Seo Okkyun (Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan) ,  Tayal Akhil (Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan) ,  Kim Jaemyung (Synchrotron X-ray Group, Research Center for Advanced Measurement and Characterization, National Institute for Materials Science (NIMS), Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan) ,  Kim Jaemyung (Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan) ,  Song Chulho (Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan) ,  Katsuya Yoshio (Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan) ,  Sakata Osami (Synchrotron X-ray Group, Research Center for Advanced Measurement and Characterization, National Institute for Materials Science (NIMS), Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan) ,  Sakata Osami (Synchrotron X-ray Station at SPring-8, Research Network and Facility Services Division, NIMS, Kouto, Sayo, Hyogo 679-5148, Japan) ,  Sakata Osami (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan) ,  Sakata Osami (Center for Synchrotron Radiation Research, Japan Synchrotron Radiation Research Institute (JASRI), 1-1-1 Koto, Sayo, Hyogo 679-5198, Japan) ,  Tang Jiayi (Graduate School of Engineering, University of Hyogo, 2167, Shosha, Himeji, Hyogo 671-2280, Japan) ,  Lee Nodo (Materials & Devices Advanced Research Institute, LG Electronics, 10, Magokjungang-ro, Gangseo-gu, Seoul 07796, Republic of Korea) ,  Kim Yong Tae (Department of Chemical Engineering & Biotechnology, Korea Polytechnic University, 237 Sangidaehak-ro, Siheung-si, Republic of Korea) ,  Ikeya Yuki (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan) ,  Takano Shiori (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan) ,  Matsuda Akifumi (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan) ,  Yoshimoto Mamoru (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259, Nagatsuta, Midori, Yokohama 226-8502, Japan)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 533  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ここでは,室温でエピタキシャル成長した超平滑Fe_2O_3ドープNiO薄膜の結晶構造における平均長および短範囲変換に及ぼす酸素分圧(pO_2)の影響を調べた。膜はパルスレーザ蒸着により堆積し,膜中の酸素含有量はpO_2を1,10-3,及び10-5Paに調節して制御した。結果は,d間隔と格子歪がpO_2の増加と共に減少することを示した。10-5Paで成長させた薄膜は岩塩構造であったが,10-3と1PaのpO_2で成長させた膜はスピネル構造であった。局所構造と原子価状態は,局所Fe配位が,より高いpO_2sで歪んだ八面体構造から四面体/歪んだ八面体構造へ遷移することを示した。さらに,Feの原子価はFe2+からFe3+へ増加し,X線回折分析により支持された構造相転移を示した。対照的に,Niの原子価と局所環境はほとんど変化しなかった。膜の構造変態は直接遷移に対する光学バンドギャップの狭小化と電気抵抗率の増加を伴った。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  *エピタクシー ,  *結晶構造 ,  格子歪 ,  電気抵抗率 ,  *薄膜 ,  *鉄 ,  *ニッケル ,  X線回折分析 ,  原子価 ,  *ドーピング ,  構造相転移 ,  *薄膜成長 ,  パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： *酸素分圧 ,  直接遷移 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 酸素分圧 ,  結晶構造 ,  室温におけるエピタキシャル成長 ,  X線回折 ,  X線吸収微細構造 ,  光バンドギャップ

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 酸素分圧 ,  室温 ,  成長 ,  ドープ ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  結晶構造