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J-GLOBAL ID：202002272201530589   整理番号：20A0363775

HTf₂Nを用いたNa-Ga合金からの高純度Gaの回収

著者 (7件)： 鈴木樹生 (北大 大学院工学院) ,  熊谷剛彦 (北大 大学院工学院) ,  松島永佳 (北大 大学院工学院) ,  上田幹人 (北大 大学院工学院) ,  山内彪我 (大阪大 大学院工学研究科) ,  今西正幸 (大阪大 大学院工学研究科) ,  森勇介 (大阪大 大学院工学研究科)
資料名： 溶融塩化学討論会講演要旨集(CD-ROM)
巻： 51st  ページ： 14-15  発行年： 2019年10月23日 
JST資料番号： L0840B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *資源回収 ,  *ガリウム ,  ナトリウム ,  ナトリウム合金 ,  ガリウム合金 ,  フラックス法 ,  分離 ,  濾過 ,  純度 ,  窒化ガリウム ,  高純度

分類 (1件)： 資源回収利用  (SC05060V)

物質索引 (1件)： ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミド

タイトルに関連する用語 (4件)： Na ,  Ga合金 ,  高純度 ,  Ga