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J-GLOBAL ID:202002273497339479   整理番号:20A2381542

パルスレーザ蒸着により作製したイットリウムドープSrZrO3薄膜の蒸着条件の最適化

Optimization of deposition conditions of yttrium doped-SrZrO3 thin films fabricated by pulsed laser deposition
著者 (4件):
資料名:
巻: 128  号:ページ: 436-440(J-STAGE)  発行年: 2020年 
JST資料番号: U0409A  ISSN: 1348-6535  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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パルスレーザ蒸着(PLD)法により,イットリウム(Y)濃度が20at%(SZYO)のSrZrO3薄膜を堆積することに成功した。PLDのレーザ出力は,同じPLDターゲットを使用しても,Y濃度に大きく影響した。反対に,レーザレプテーションの頻度と蒸着温度は組成に大きな影響を与えなかった。最適条件で堆積されたSZYO膜は十分に結晶化され,二次相を示さず,(111)Pt/SiOx/Siおよび(111)Pd/(111)Pt/SiOx/Si基板上にそれぞれ堆積したときに(111)および(110)配向を示した。このSZYO膜は,提案する新規固体酸化物燃料電池の電極としての使用が期待されている。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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