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J-GLOBAL ID：202002274378892916   整理番号：20A0807466

背景ガスによる対向衝撃波の通過後のレーザ誘起プルームの膨張【JST・京大機械翻訳】

Expansion of laser-induced plume after the passage of a counter shock wave through a background gas

著者 (7件)： Higo Akira (Graduate School of Natural Science, Konan University, Kobe, Japan) ,  Katayama Keita (Graduate School of Natural Science, Konan University, Kobe, Japan) ,  Fukuoka Hiroshi (National Institute of Technology, Nara College, Nara, Japan) ,  Yoshida Takehito (National Institute of Technology, Anan College, Anan, Japan) ,  Aoki Tamao (Department of Physics, Konan University, Kobe, Japan) ,  Yaga Minoru (Department of Mechanical System Engineering, University of the Ryukyus, Nishihara, Japan) ,  Umezu Ikurou (Department of Physics, Konan University, Kobe, Japan)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 126  号： 4  ページ： 304  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 背景ガス中の二つのターゲットとレーザによる二重パルスレーザアブレーションは,ナノ粒子錯体を形成する方法である。プルーム膨張動力学に及ぼす二つのレーザ間のパルス遅延の影響を論じた。ゲルマニウムとシリコンターゲットを互いに平行にセットし,2つのYAGレーザで照射した。ゲルマニウムターゲットを照射し,遅延時間t_dでシリコンターゲットを照射した。遅延したシリコンプルームの膨張距離は,シリコンターゲットのみを照射した場合と比較して,2μs≦t_d≦50μsで増強されることを見出した。t_d=200μsに対して,遅延シリコンプルームの膨張距離は,シリコンターゲットのみを照射した場合と類似していた。一次ゲルマニウムプルームにより誘起された密度分布の効果に基づく遅延シリコンプルームの膨張動力学を論じた。著者らの結果は,一次ゲルマニウムプルームの効果が約t_d=50μsまで残り,t_d=200μsによって消滅することを示した。Copyright Springer-Verlag GmbH Germany, part of Springer Nature 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ケイ素 ,  ゲルマニウム ,  パルスレーザ蒸着 ,  ナノ粒子 ,  YAGレーザ ,  パルス ,  密度分布 ,  *衝撃波 ,  *プルーム
準シソーラス用語： 遅延時間 ,  パルスレーザアブレーション ,  *レーザ誘起 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： パルスレーザアブレーション ,  衝撃波 ,  プルームの拡大 ,  パルスレーザ蒸着

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 背景 ,  衝撃波 ,  レーザ誘起 ,  プルーム ,  膨張