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J-GLOBAL ID：202002275040415659   整理番号：20A0508515

GAMMA10/PDXの非軸対称アンカーセルにおけるICRF加熱による中央セルの電位上昇の観察

Observation of Potential Increase in the Central Cell due to ICRF Heating in the Non-Axisymmetric Anchor Cell on GAMMA 10/PDX

著者 (12件)： TANAKA Atsuto (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  ICHIMURA Makoto (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  HIRATA Mafumi (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  IKEZOE Ryuya (Research Institute for Applied Mechanics, Kyushu University) ,  SUMIDA Shuhei (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  JANG Seowon (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  IZUMI Koki (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  KUBOTA Yushi (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  SEKINE Ryo (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  KAYANO Hiroki (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  SAKAMOTO Mizuki (Plasma Research Center, University of Tsukuba) ,  NAKASHIMA Yousuke (Plasma Research Center, University of Tsukuba)
資料名： Plasma and Fusion Research (Web)  (Plasma and Fusion Research (Web))
巻： 14  ページ： 2401028(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： U0045A  ISSN： 1880-6821  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高密度プラズマ生成のために,アンカーセルにおける追加的イオンサイクロトロン領域周波数(ICRF)加熱を用いた。アンカーセルに設置されたアンテナによりICRF波が励起されると,プラズマ電位は著しく上昇し,中央セル周辺に非軸対称電位分布を形成することが観測された。ICRF波によるこのポテンシャル変化の物理的機構を理解するために,異なる周波数での実験を行った。イオン加熱は電位上昇に重要な役割を果たしていないことを確認した。アンカーセル内のプラズマの外側に設置されたいくつかのチップ上の浮遊電位は,追加熱中に著しく減少し,中央セルにおける浮遊電位の非軸対称分布は,アンカーセルのアンテナ位置に依存する。ICRFアンテナによる非軸対称アンカーセルにおけるアンテナ近傍の電子の半径方向輸送は,中央セル中の電位上昇の可能性がある候補であることを示唆す。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 数学的性質 ,  *ICRF加熱 ,  *プラズマ ,  *プラズマ生成 ,  *タンデムミラー ,  プラズマ加熱 ,  *アンカ ,  *プラズマパラメータ ,  電位 ,  *輸送現象
準シソーラス用語： GAMMA10/PDX ,  *アンカープラズマ ,  *プラズマ電位 ,  *プラズマ輸送過程 ,  高密度プラズマ ,  *電位上昇 ,  電子輸送 ,  非軸対称性 ,  浮遊電位

著者キーワード (5件)： ICRF波 ,  アンカー加熱 ,  ポテンシャル ,  非軸対称性 ,  GAMMA10/PDX

分類 (2件)： 核融合装置  (BJ02083Z) ,  プラズマ平衡・閉込め  (BJ02070P)

引用文献 (8件)：

• [1] M. Inutake et al., Phys. Rev. Lett. 55, 939 (1985).
• [2] Y. Nakashima et al., Fusion Sci. Technol. 68, 28 (2015).
• [3] Y. Saito et al., Trans. Fusion Sci. Technol. 63, 1T, 277 (2013).
• [4] B.A. Nelson et al., Plasma Physics (1989-1993) 4, 3663 (1992).
• [5] D.K. Smith et al., Phys. Fluids 29, 902 (1986).

タイトルに関連する用語 (6件)： Gamma10 ,  アンカー ,  セル ,  ICRF加熱 ,  電位 ,  観察