文献

J-GLOBAL ID：202002276654352028   整理番号：20A2347738

3次元ナノ構造の位相シフトマスク設計とサイズの関係【JST・京大機械翻訳】

Relationship of phase shift mask design and size of three-dimension nanostructures

著者 (5件)： Sihapitak Pongsakom (Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192) ,  Ishikawa Yasuaki (College of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University,Sagamihara,Kanagawa,Japan,252-5258) ,  Wang Xudongfang (Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192) ,  Uenuma Mutsunori (Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192) ,  Uraoka Yukiharu (Nara Institute of Science and Technology,Division of Science and Technology,Nara,Japan,630-0192)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： AM-FPD  ページ： 80-82  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 近接場ナノパターニング(PnP)プロセスで作製した三次元ナノ構造に頼ることで,柔軟で高効率の熱電素子を実現できる。本研究では,フォトレジストに光回折を発生させる位相シフトマスクを研究した。デバイス性能を高めるために,マスクが光伝搬シミュレーションにおけるデバイス性能にどのように影響するかと同様に,このプロセスに対するマスクのサイズ限界も調べた。結果は,周期を0.60μmから0.30μmに変えることにより,ナノ構造サイズの減少が50%の充填因子(FF)をもたらすことを示す。要約するために,マスク周期性0.30μmは,シミュレーションによって実行したサイズ限界であり,マスク周期性0.40μmは,将来の研究のための刺激的候補である。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： シミュレーション ,  光回折 ,  フォトレジスト ,  光伝搬 ,  熱電素子 ,  *三次元 ,  *ナノ構造 ,  近接場 ,  周期性 ,  充填率
準シソーラス用語： 高効率 ,  *位相シフトマスク ,  ナノパターニング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 3次元 ,  ナノ構造 ,  位相シフトマスク ,  設計 ,  サイズ