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J-GLOBAL ID:202002283783600249   整理番号:20A0191202

バックゲート制御を用いた信頼性の高い高性能非対称FinFET SRAMセル【JST・京大機械翻訳】

Reliable and high performance asymmetric FinFET SRAM cell using back-gate control
著者 (2件):
資料名:
巻: 104  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: C0530A  ISSN: 0026-2714  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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技術のスケールダウンにより,性能特性が劣化し,ソフトエラーとエージング効果に対するディジタル回路の信頼性が低下した。本論文では,タイドゲートおよび独立ゲートトランジスタの組合せにより形成された信頼できる非対称FinFET6T SRAMセルを提案した。提案した設計において,バックゲート電圧に対して固定値を用い,内蔵フィードバックとともにバックゲート制御法を用いた。V_DD=0.9Vにおける32nmのFinFET技術におけるHSPICEシミュレーションは,提案したセルが,最近報告されたセルの中で最も高い読み込みSNM,読出し速度,書込み安定性,および最小の読出し電力消費を有することを示した。さらに,提案したSRAM構造は最良のソフトエラー耐性設計であり,低い差で,本論文で考慮した他のSRAMセルと比較して,負のバイアス温度不安定性により誘起されたエージング効果に対して二番目の最小ホールドと読取安定性劣化を持つ。さらに,結果は,プロセスと環境変化に対して提案したセルの効率を実証した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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半導体集積回路  ,  固体デバイス計測・試験・信頼性 

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