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J-GLOBAL ID：202002285245753592   整理番号：20A2488216

EUVリソグラフィーにおける確率的サイドローブ印刷:シミュレーション研究【JST・京大機械翻訳】

Stochastic side-lobe printing in EUV lithography: a simulation study

著者 (4件)： Burov Anatoly (KLA Texas (United States)) ,  Vaglio Pret Alessandro (KLA Corp. (United States)) ,  Robertson Stewart A. (KLA Texas (United States)) ,  Lee Patrick (KLA Texas (United States))
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 11518  ページ： 115180Y-13  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： EUV位相シフトマスクは,二重パターニングまたは高NA曝露の代替として,N3ノードに導入できる。有利であるために,位相シフトマスクは180°および高透過率の位相と異なる。主な関心事は,そのような曝露が確率的サイドローブ印刷によってどのように影響を受けるかである。本論文では,異なるマスクアプローチ,すなわち,バイナリマスク,支援特徴のある場合とない場合の位相シフトマスク,およびTriToneマスクとの接触層に対する確率的分布を比較するシミュレーション研究を提示した。本研究の目的は,EUVリソグラフィーにおける位相シフトマスクが,NA=0.33で単一曝露EUVをさらに拡張するための貴重なオプションになるかどうかを評価することである。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *シミュレーション ,  *印刷 ,  位相 ,  *サイドローブ
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  位相シフトマスク ,  ダブルパターニング ,  バイナリマスク , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： EUVリソグラフィー ,  確率 ,  サイドローブ ,  シミュレーション ,  研究