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J-GLOBAL ID：202002286372126233   整理番号：20A2525140

EUV光源におけるレーザ生成プラズマから放出されたSnの注入に関連した集光ミラー上の保護膜の表面形態変化

Surface morphology change of protective film on collector mirror related to implantation of Sn emitted from laser produced plasma in EUV light source

著者 (8件)： Honda Yoshiyuki (Gigaphoton Inc., Hiratsuka facility, 3-25-1 Shinomiya, Hiratsuka, Kanagawa, 254-8555 Japan) ,  Yanagida Tatsuya (Gigaphoton Inc., Hiratsuka facility, 3-25-1 Shinomiya, Hiratsuka, Kanagawa, 254-8555 Japan) ,  Shiraishi Yutaka (Gigaphoton Inc., Hiratsuka facility, 3-25-1 Shinomiya, Hiratsuka, Kanagawa, 254-8555 Japan) ,  Morita Masayuki (Gigaphoton Inc., Hiratsuka facility, 3-25-1 Shinomiya, Hiratsuka, Kanagawa, 254-8555 Japan) ,  Andou Masahiko (Gigaphoton Inc., Hiratsuka facility, 3-25-1 Shinomiya, Hiratsuka, Kanagawa, 254-8555 Japan) ,  Tomuro Hiroaki (Gigaphoton Inc., Hiratsuka facility, 3-25-1 Shinomiya, Hiratsuka, Kanagawa, 254-8555 Japan) ,  Matsuda Akifumi (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Midori, Yokohama, 226-8502 Japan) ,  Yoshimoto Mamoru (Department of Materials Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Midori, Yokohama, 226-8502 Japan)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 13  号： 11  ページ： 115501 (5pp)  発行年： 2020年11月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 同所英文抄録極端紫外(EUV)集光ミラーのMo/Si多層上に被覆した非晶質TiO₂保護膜の表面形態の変化を調べた。EUV光源の長時間運転後,約10nm直径の多くのピンホールが保護TiO₂2膜表面に観察された。コレクタミラー上の表面条件をシミュレートした薄膜試料による加速劣化試験は,Sn注入によって誘起された保護膜の結晶化が,観察されたピンホールの形成の主な原因であることを示唆する。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *光源 ,  レーザプラズマ ,  スズ ,  *保護膜 ,  *モルフォロジー ,  *表面構造 ,  *鏡 ,  ピンホール ,  酸化チタン ,  加速試験 ,  寿命試験
準シソーラス用語： *EUV光源 ,  レーザ生成プラズマ ,  *表面形態 ,  *集光ミラー ,  二酸化チタン ,  加速劣化試験

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (9件)： EUV光源 ,  レーザ生成プラズマ ,  放出 ,  Sn ,  注入 ,  集光 ,  ミラー ,  保護膜 ,  表面形態