特許

J-GLOBAL ID：202003002703765846

気相成長装置、環状ホルダ、及び、気相成長方法

発明者： 家近 泰 ,  津久井 雅之 ,  石川 幸孝
出願人/特許権者： 株式会社ニューフレアテクノロジー
代理人 (3件)： 池上 徹真 ,  須藤 章 ,  松山 允之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-208600
公開番号（公開出願番号）：特開2018-073886
特許番号：特許第6740084号
出願日： 2016年10月25日
公開日（公表日）： 2018年05月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 反応室と、 前記反応室内に設けられ基板を載置する環状ホルダであって、環状の外周部と、前記外周部の上面よりも下方に位置する基板載置面を有する環状の内周部とを有し、前記基板載置面が周方向に凸領域と凹領域を繰り返す6回回転対称の曲面である環状ホルダと、 前記環状ホルダの下方に設けられたヒータと、 を備える気相成長装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  C23C 16/44 ( 200 6.01) ,  C23C 16/46 ( 200 6.01) ,  H01L 21/683 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 B ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/68 N

引用特許：

出願人引用 (4件)

• エピタキシャルウエハ製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-286187   出願人：株式会社スーパーシリコン研究所
• 気相成長用サセプタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-078619   出願人：東芝機械株式会社
• 気相成長装置用サセプタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-226679   出願人：東芝セラミックス株式会社, 徳山セラミックス株式会社
• 特開平4-211117