特許
J-GLOBAL ID:202003003435318110
ガス検出装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
塩入 明
, 塩入 みか
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-167685
公開番号(公開出願番号):特開2020-041833
出願日: 2018年09月07日
公開日(公表日): 2020年03月19日
要約:
【構成】 サンプルガスを除湿セルにより除湿した後、MEMSガスセンサへ供給し、非加熱下にあるMEMSガスセンサの金属酸化物半導体に、サンプルガス中の検出対象ガスを吸着させる。次いで、ヒータ制御部により金属酸化物半導体を加熱し、加熱時のMEMSガスセンサの出力から、ガス検出部により検出対象ガスを検出する。【効果】 サブppb濃度の検出対象ガスを検出できる。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
金属酸化物半導体の厚膜から成る感ガス部とヒータを有するMEMSガスセンサを備えるガス検出装置であって、
サンプルガスの除湿手段と、
ヒータをオフした状態のMEMSガスセンサへ、除湿後のサンプルガスを供給するガス流路と、
MEMSガスセンサがサンプルガスと接触した後に、前記ヒータをオンすることにより前記金属酸化物半導体を動作温度へ加熱し、次いで前記ヒータをオフする、ヒータ制御部と、
加熱時の前記金属酸化物半導体の抵抗値から、サンプルガス中の検出対象ガスを検出するガス検出部、を有するガス検出装置。
IPC (1件):
FI (3件):
G01N27/12 D
, G01N27/12 C
, G01N27/12 B
Fターム (15件):
2G046AA05
, 2G046AA18
, 2G046AA25
, 2G046AA26
, 2G046BA09
, 2G046BD01
, 2G046BD06
, 2G046EA02
, 2G046EA04
, 2G046EB06
, 2G046FB02
, 2G046FC01
, 2G046FE03
, 2G046FE29
, 2G046FE38
引用特許:
出願人引用 (6件)
-
ガスセンサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2015-138394
出願人:富士電機株式会社, 国立大学法人東京大学
-
匂い検知装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-178287
出願人:株式会社島津製作所
-
ガスセンサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-179102
出願人:フィガロ技研株式会社
全件表示
審査官引用 (6件)
-
ガスセンサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2015-138394
出願人:富士電機株式会社, 国立大学法人東京大学
-
匂い検知装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-178287
出願人:株式会社島津製作所
-
ガスセンサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-179102
出願人:フィガロ技研株式会社
全件表示
引用文献:
前のページに戻る