特許
J-GLOBAL ID：202003003512507290
ポリカルボシラン含有組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-134574
公開番号（公開出願番号）：特開2020-012951
出願日： 2018年07月17日
公開日（公表日）： 2020年01月23日
要約：
【課題】被加工基板上に形成されたレジストパターンに高低差や疎密のある段差基板に対し、レジストパターン間に良好に埋め込むことができるポリカルボシラン含有組成物を用い、特定の手順により段差基板を平坦に被覆するための方法を提供する。【解決手段】ポリカルボシランと溶媒とを含む、有機パターン上に塗布されるパターン反転膜形成用組成物である。好ましくはポリカルボシランが、式(1)で表される単位構造を含む。(R1及びR2は各々水素原子、ヒドロキシ基、C1〜C10アルキル基、他の基を表す。)【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ポリカルボシランと溶媒とを含む、有機パターン上に塗布されるパターン反転膜形成用組成物。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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