特許
J-GLOBAL ID：202003004988709360
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-223891
公開番号（公開出願番号）：特開2020-088280
出願日： 2018年11月29日
公開日（公表日）： 2020年06月04日
要約：
【課題】メンテナンスを減らすことができる技術を提供する。【解決手段】処理容器は、処理対象の基板が内部に配置され、基板処理が実施される。保持部は、処理容器内の基板処理により消耗または劣化する部品の一部または全部としてイオン液体を保持する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理対象の基板が内部に配置され、基板処理が実施される処理容器と、
前記処理容器内の前記基板処理により消耗または劣化する部品の一部または全部としてイオン液体を保持する保持部と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F004BA09
, 5F004BB22
, 5F004BB23
