特許
J-GLOBAL ID：202003008088459207
膜形成方法及び膜形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
廣田 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-140213
公開番号（公開出願番号）：特開2020-015012
出願日： 2018年07月26日
公開日（公表日）： 2020年01月30日
要約：
【課題】高品質なパターン状の膜を簡便に形成できる膜形成方法の提供。【解決手段】基材1上の任意の位置に所望のパターン形状に膜(A)7を形成する膜形成方法であって、膜(A)7を形成しない部分に、予めゼラチンを含むマスク膜(B)2を形成する第1の工程と、マスク膜(B)2上を含む、基材1上の全膜形成領域に膜(A)7を形成する第2の工程と、マスク膜(B)2及びマスク膜(B)2上に重なった膜(A)7を除去する第3の工程と、を含む膜形成方法。【選択図】図1C
請求項（抜粋）：
基材上の任意の位置に所望のパターン形状に膜(A)を形成する膜形成方法であって、
前記膜(A)を形成しない部分に、予めゼラチンを含むマスク膜(B)を形成する第1の工程と、
前記マスク膜(B)上を含む、基材上の全膜形成領域に前記膜(A)を形成する第2の工程と、
前記マスク膜(B)及び該マスク膜(B)上に重なった前記膜(A)を除去する第3の工程と、
を含むことを特徴とする膜形成方法。
IPC (10件)：
B05D 1/32
, C09D 189/00
, C09D 5/00
, C09D 5/02
, B05D 3/10
, B05C 5/00
, B05C 11/00
, B05C 11/10
, C23C 14/04
, C23C 16/04
B05D1/32 A
, C09D189/00
, C09D5/00 D
, C09D5/02
, B05D3/10 N
, B05C5/00 101
, B05C11/00
, B05C11/10
, C23C14/04 A
, C23C16/04
4D075AA00
, 4D075AB00
, 4D075AC00
, 4D075AC06
, 4D075AC09
, 4D075AD01
, 4D075AE03
, 4D075BB20Z
, 4D075BB22X
, 4D075BB79Z
, 4D075BB85Z
, 4D075CA22
, 4D075DA06
, 4D075DB01
, 4D075DB02
, 4D075DB04
, 4D075DB06
, 4D075DB07
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DB33
, 4D075DB38
, 4D075DB43
, 4D075DB48
, 4D075DB53
, 4D075DC19
, 4D075DC21
, 4D075DC24
, 4D075EA06
, 4D075EA15
, 4D075EB07
, 4D075EC35
, 4F041AA02
, 4F041AB01
, 4F041BA01
, 4F041BA10
, 4F041BA23
, 4F041BA59
, 4F042CC04
, 4F042CC10
, 4F042DG00
, 4J038BA181
, 4J038KA06
, 4J038MA08
, 4J038NA01
, 4J038NA12
, 4J038PA18
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA45
, 4K029BA47
, 4K029BA49
, 4K029BB03
, 4K029BC09
, 4K029HA05
, 4K030BA42
, 4K030BA45
, 4K030BA47
, 4K030BB14
, 4K030CA07
, 4K030CA17
, 4K030DA05
, 4K030LA04
