特許

J-GLOBAL ID：202003008517296117

基板処理装置及び基板処理方法

発明者： 佐々木 悠太 ,  塙 洋祐
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (1件)： 小山 靖
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-187013
公開番号（公開出願番号）：特開2018-056176
特許番号：特許第6780998号
出願日： 2016年09月26日
公開日（公表日）： 2018年04月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 融解状態の昇華性物質、及び当該昇華性物質に対し相溶性を示すアルコールを含む処理液を、基板のパターン形成面に供給する供給手段と、 前記処理液を、前記パターン形成面上で凝固させて凝固体を形成する凝固手段と、 前記凝固体を昇華させて、前記パターン形成面から除去する昇華手段と、 を備え、 前記昇華性物質はフッ化炭素化合物を含むものであり、 前記アルコールの濃度が、前記処理液に対し0.001体積%〜0.8体積%の範囲内であることを特徴とする、基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/304 651 K ,  H01L 21/304 651 L

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ウェハの洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-179894   出願人：セントラル硝子株式会社
• 基板乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-182917   出願人：株式会社SCREENホールディングス
• 基板乾燥方法及び基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-110677   出願人：東京エレクトロン株式会社