パターン形成用組成物及びパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：天野一規
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-510241
特許番号：特許第6652721号
出願日： 2016年03月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】自己組織化により相分離構造を形成するブロック共重合体、及び溶媒を含有するパターン形成用組成物であって、上記ブロック共重合体が、置換又は非置換のスチレン単位からなる第1ブロックと、(メタ)アクリル酸エステル単位からなる第2ブロックと、主鎖の少なくとも一方の末端に結合する第1基とを有し、上記第1基が、主鎖側結合手にメチル基を結合させたときにClogPが-1以上3以下の化合物を形成する1価の基であり、上記ブロック共重合体が隣接する上記第1ブロックと上記第2ブロックとの間に連結基をさらに有し、上記連結基が炭素数1〜5のアルカンジイル基の有する水素原子のうち2個を芳香族炭化水素基で置換した基であることを特徴とするパターン形成用組成物。

IPC (2件)：