パターン形成用自己組織化組成物、それを用いたブロックコポリマーの自己組織化によるパターン形成方法、及びパターン

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：高松猛 , 尾澤俊之 , 長谷川博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-217567
公開番号（公開出願番号）：特開2014-070154
出願日： 2012年09月28日
公開日（公表日）： 2014年04月21日
要約：

【課題】ブロックコポリマーを用いる自己組織化リソグラフィーにおいて、ミクロ相分離に要するアニーリング時間を著しく短縮し、パターン形成のスループットを向上させ得るパターン形成用自己組織化組成物、該組成物を用いたブロックコポリマーの自己組織化によるパターン形成方法及びパターンを提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するブロックを含有するブロックコポリマーと、有機溶剤とを含有するパターン形成用自己組織化組成物。上記一般式(1)中、 Xはアルキル基又はシクロアルキル基を表わす。nは1〜5の整数を表わし、nが2以上の場合、Xは同一でも異なっていても良い。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するブロックを含有するブロックコポリマーと、有機溶剤とを含有するパターン形成用自己組織化組成物。

IPC (4件)：

C08L 53/00 , G03F 7/40 , H01L 21/027 , C08F 293/00

FI (4件)：

C08L53/00 , G03F7/40 , H01L21/30 502D , C08F293/00

Fターム (19件)：

2H096AA25 , 2H096BA09 , 2H096EA04 , 2H096HA02 , 4J002BP031 , 4J002GP03 , 4J002HA03 , 4J026HA11 , 4J026HA22 , 4J026HA32 , 4J026HA38 , 4J026HA45 , 4J026HA48 , 4J026HB06 , 4J026HB22 , 4J026HB32 , 4J026HB45 , 4J026HE01 , 5F146AA28

引用特許：

審査官引用 (12件)

有機高分子、電子デバイス、および方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-532428 出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
架橋性高分子化合物およびこれを含有する感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-024631 出願人：綜研化学株式会社
深紫外線リソグラフィー用のフォトレジスト組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-589881 出願人：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド

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引用文献：

審査官引用 (1件)

Polymeric Materials:Science & Engineering, 2002, 87, 414-415

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