特許

J-GLOBAL ID：202003009421987891

導電性パターンの製造方法、及びプラズマ処理装置

発明者： 大野 栄一
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
代理人 (3件)： 青木 宏義 ,  天田 昌行 ,  三輪 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-124767
公開番号（公開出願番号）：特開2020-004647
出願日： 2018年06月29日
公開日（公表日）： 2020年01月09日
要約：

【課題】還元性ガスを供給せずとも、金属酸化物粒子の還元と焼結を行い、導電性のパターンを得ること。【解決手段】本発明における導電性パターンの製造方法は、酸化銅を分散させたインクを用いて基板上にパターンを形成した被処理物を、水或いは水と不活性ガスとを含むガスが存在する状態で、かつ還元性ガスを導入しない状態で、プラズマ処理を行うことを特徴とする。水を、外部からチャンバー内に供給し、或いは、被処理物に付帯させることができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸化銅を分散させたインクを用いて基板上にパターンを形成した被処理物を、水が存在する状態で、かつ還元性ガスを導入しない状態で、プラズマ処理を行うことを特徴とする導電性パターンの製造方法。

IPC (8件)：

H01B 13/00 ,  H05K 3/12 ,  H01B 1/22 ,  B32B 7/025 ,  B32B 9/00 ,  B05D 3/04 ,  B05D 7/24 ,  B05D 5/12

FI (9件)：

H01B13/00 503D ,  H05K3/12 610D ,  H01B1/22 A ,  B32B7/02 104 ,  B32B9/00 A ,  B05D3/04 C ,  B05D7/24 301M ,  B05D7/24 302A ,  B05D5/12 B

Fターム (70件)：

2G084AA07 ,  2G084BB03 ,  2G084CC12 ,  2G084CC16 ,  2G084CC33 ,  2G084CC34 ,  2G084DD02 ,  2G084DD15 ,  2G084DD19 ,  2G084DD51 ,  2G084DD56 ,  2G084EE09 ,  4D075BB49Z ,  4D075BB52Z ,  4D075CA22 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB48 ,  4D075DC21 ,  4D075EA33 ,  4D075EB01 ,  4F100AA04B ,  4F100AA17B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10B ,  4F100EJ52B ,  4F100EJ55B ,  4F100EJ593 ,  4F100EJ603 ,  4F100GB43 ,  4F100HB31B ,  4F100HB40B ,  5E343AA14 ,  5E343AA15 ,  5E343AA16 ,  5E343AA17 ,  5E343AA18 ,  5E343AA23 ,  5E343AA26 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB34 ,  5E343BB44 ,  5E343BB71 ,  5E343DD02 ,  5E343DD03 ,  5E343DD12 ,  5E343DD20 ,  5E343EE46 ,  5E343ER37 ,  5E343ER42 ,  5E343FF01 ,  5E343FF11 ,  5E343GG11 ,  5E343GG20 ,  5G301DA06 ,  5G301DA23 ,  5G301DA42 ,  5G301DD02 ,  5G301DE01 ,  5G323BA01 ,  5G323BB01 ,  5G323BB02 ,  5G323BB06 ,  5G323BC03 ,  5G323CA03 ,  5G323CA05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2016-241424   出願人：サムコ株式会社
• 導電性塗膜の製造方法及び導電性塗膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-032605   出願人：戸田工業株式会社