反射型フォトマスク及びその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-042017
公開番号（公開出願番号）：特開2017-156658
特許番号：特許第6728785号
出願日： 2016年03月04日
公開日（公表日）： 2017年09月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板、多層反射層、吸収膜、表面膜を備える反射型フォトマスクであって、前記反射型フォトマスクの表面が回路パターン領域と、前記回路パターン領域の外側の遮光領域とを含む複数の領域に区分されており、前記回路パターン領域では、前記基板上に前記多層反射層と前記吸収膜がこの順に積層されており、かつ、前記吸収膜が回路パターンを構成しており、前記遮光領域では、前記吸収膜と前記多層反射層が除去されて前記基板が露出しており、前記遮光領域の前記基板が露出した部分には凹凸構造が形成されており、前記遮光領域の側面及び前記凹凸構造の最表面には前記表面膜が配置されており、前記表面膜のシート抵抗は500Ω/□以下であることを特徴とする反射型フォトマスク。

IPC (3件)：