特許

J-GLOBAL ID：202003010192612941

高純度マグネシウム製の医療用インプラント及びその製造方法

発明者： 石崎 貴裕 ,  佐野 光雄
出願人/特許権者： 学校法人 芝浦工業大学 ,  日東ユメックス株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人田中・岡崎アンドアソシエイツ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-055808
公開番号（公開出願番号）：特開2020-156528
出願日： 2019年03月25日
公開日（公表日）： 2020年10月01日
要約：

【課題】高純度マグネシウムを適用する医療用インプラントについて、機械的性質や生体適合性を損なうことなく、耐食性が改良されたものを提供する。【解決手段】ボーンプレート、スクリュー、ステント等の医療用インプラントであって、純度99質量%以上のマグネシウムを基材とする医療用インプラント。当該医療用インプラントは、基材の表面上に水酸化マグネシウムを必須的に含む防食皮膜を備える。この皮膜はX線回折による回折ピークにおいて、水酸化マグネシウム011反射のピーク強度(X)と、マグネシウムの101反射のピーク強度(Y)との比(X/Y)が、0.05以上0.5以下となっており、基材の水蒸気処理によって形成される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

純度99質量%以上のマグネシウムからなる基材と、前記基材表面上に形成された皮膜とからなる医療用インプラントであって、 前記皮膜は、水酸化マグネシウムを必須的に含む医療用インプラント。

IPC (4件)：

A61L 27/04 ,  A61L 31/02 ,  A61L 27/50 ,  A61L 31/14

FI (4件)：

A61L27/04 ,  A61L31/02 ,  A61L27/50 ,  A61L31/14

Fターム (11件)：

4C081AA01 ,  4C081AA13 ,  4C081AA14 ,  4C081AB03 ,  4C081AB06 ,  4C081AC02 ,  4C081AC03 ,  4C081AC09 ,  4C081BB08 ,  4C081CF24 ,  4C081DC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 医療用生分解性デバイスの分解時間制御方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2007055571   出願人：独立行政法人物質・材料研究機構
• マグネシウム複合材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2017-106817   出願人：学校法人芝浦工業大学, ジャパンファインスチール株式会社
• 移植材とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-230971   出願人：オリンパス株式会社
• 生分解性マグネシウム材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-311832   出願人：独立行政法人物質・材料研究機構

引用文献：

審査官引用 (3件)

• J. Flux Growth, 2015, Vol.10 No.2, pp.55-59
• 軽金属, 2008, 第58巻第11号, pp.570-576
• マグネシウム合金の医療応用に関する開発ガイドライン2017(総論)(手引き), 2017