基板処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人あい特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-170170
公開番号（公開出願番号）：特開2018-037550
特許番号：特許第6722551号
出願日： 2016年08月31日
公開日（公表日）： 2018年03月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を水平に保持する基板保持工程と、前記水平に保持された基板の上面に対向部材を対向配置する対向配置工程と、前記水平に保持された基板と、前記対向部材と、平面視で前記水平に保持された基板および前記対向部材を取り囲む複数のガードとによって、外部との雰囲気の行き来が制限された空間を形成する空間形成工程と、前記空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給工程と、前記空間を維持しながら前記対向部材を前記水平に保持された基板に対して相対的に昇降させることによって、前記基板の上面と前記対向部材との間の間隔を調整する間隔調整工程と、前記間隔調整工程の後に前記水平に保持された基板の上面に処理液を供給する処理液供給工程とを含み、複数の前記ガードが、第1ガードと、前記第1ガードとに下方から対向する第2ガードとを有し、前記空間形成工程が、前記第1ガードの内縁部を前記対向部材の外縁部に対向させ、かつ、前記第2ガードの内縁部を前記基板の外縁部に対向させることで前記空間を形成する工程を含む、基板処理方法。

IPC (1件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/304 648 Z , H01L 21/304 651 L , H01L 21/304 651 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-278049 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2014-068618 出願人：株式会社SCREENホールディングス
基板処理方法および基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-210706 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

全件表示

前のページに戻る