特許

J-GLOBAL ID：202003011566100008

積層体及びその製造方法

発明者： 大久保 雄司 ,  山村 和也 ,  石原 健人 ,  柴原 正文 ,  長谷 朝博 ,  本田 幸司
出願人/特許権者： 国立大学法人大阪大学 ,  兵庫県
代理人 (1件)： 特許業務法人アスフィ国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018020991
公開番号（公開出願番号）：WO2018-221665
出願日： 2018年05月31日
公開日（公表日）： 2018年12月06日
要約：

ポリマー層とゴム層との接着性を更に向上させて、PTFE等のポリマー層とゴムとの積層体を提供することを目的とする。本発明は、フッ素含有高分子化合物層と、ゴム組成物から形成されるゴム層が積層される積層体であって、前記フッ素含有高分子化合物が、ヘキサフルオロプロピレン単位、パーフルオロアルキルビニルエーテル単位、メチレン単位、エチレン単位及びパーフルオロジオキソール単位の少なくとも1種とジフルオロメチレン単位との共重合体、又はポリテトラフルオロエチレンであり、前記ゴム層がSiO2を含むことを特徴とする積層体である。

請求項（抜粋）：

フッ素含有高分子化合物層と、ゴム組成物から形成されるゴム層が積層される積層体であって、 前記フッ素含有高分子化合物層の表面粗さRaが1μm以下であり、 前記フッ素含有高分子化合物が、ヘキサフルオロプロピレン単位、パーフルオロアルキルビニルエーテル単位、メチレン単位、エチレン単位及びパーフルオロジオキソール単位の少なくとも1種とジフルオロメチレン単位との共重合体、又はポリテトラフルオロエチレンであり、 前記ゴム組成物100質量部中における有機過酸化物の含有量は0.1質量部未満であり、 前記ゴム層がSiO2を含むことを特徴とする積層体。

IPC (4件)：

B32B 25/08 ,  B32B 27/30 ,  B32B 25/02 ,  B29C 65/02

FI (4件)：

B32B25/08 ,  B32B27/30 D ,  B32B25/02 ,  B29C65/02

Fターム (22件)：

4F100AA20B ,  4F100AH02A ,  4F100AK17A ,  4F100AK18A ,  4F100AN00B ,  4F100AN01B ,  4F100AN02B ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100DE01B ,  4F100EJ17 ,  4F100EJ42 ,  4F100EJ61A ,  4F100JK06 ,  4F100JK14A ,  4F211AA16 ,  4F211AA45 ,  4F211AB12 ,  4F211TA01 ,  4F211TH24 ,  4F211TQ01 ,  4F211TW06