特許
J-GLOBAL ID:202003012050326464

真空圧力制御システム及び真空圧力制御用コントローラ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人コスモス国際特許商標事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-179439
公開番号(公開出願番号):特開2018-045432
特許番号:特許第6737669号
出願日: 2016年09月14日
公開日(公表日): 2018年03月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ピストンにより区画される操作室と、前記ピストンと一体的に移動する弁体と、前記弁体が当接又は離間する弁座と、前記弁体を前記弁座にシールさせるシール荷重を付与するシール荷重付与手段とを有し、真空容器と真空ポンプとの間に配置される真空弁と、前記真空容器の内圧と真空圧力目標値との偏差に基づいて前記真空弁の弁開度を制御する弁開度制御信号を出力するコントローラとを有する真空圧力制御システムにおいて、 操作圧力を測定し、操作圧力測定信号を出力する操作圧力センサと、 前記弁開度制御信号と前記操作圧力測定信号に基づいて前記操作室に操作流体を給排気し、前記操作圧力を制御する操作圧力制御機構とを有すること、 前記コントローラは、 前記操作圧力測定信号に基づいて前記操作圧力の変化率が変化する変曲点を検知し、前記真空弁の動作特性データを採取する動作特性データ採取手段を有し、 前記内圧を前記真空圧力目標値に制御する場合に、前記動作特性データを用いて前記弁開度制御信号を生成し、前記操作圧力制御機構に出力すること、 を特徴とする真空圧力制御システム。
IPC (1件):
G05D 16/20 ( 200 6.01)
FI (1件):
G05D 16/20 C
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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