グラフェンナノリボン、及びその製造方法、並びに電子装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：廣田浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-062063
公開番号（公開出願番号）：特開2020-158373
出願日： 2019年03月28日
公開日（公表日）： 2020年10月01日
要約：

【課題】電子装置用のグラフェンナノリボンの提供。【解決手段】長さ方向の一方の側の領域の幅方向両端部に式(1)又は(2)の基、他方の側の領域の幅方向両端部にH又は水酸基を有するグラフェンナノリボン。R1はアルキル基、R2はメチレン基又は式(3)を表し、R21はメチル基又はエチル基を表す。【選択図】図6D

請求項（抜粋）：

長さ方向の一方の側の第1領域と、前記長さ方向の他方の側の第2領域と、を有するグラフェンナノリボンであって、前記第1領域が、幅方向の両端部の少なくともいずれかに、下記一般式(1)で表される基及び下記一般式(2)で表される基の少なくともいずれかを有し、前記第2領域が、幅方向の両端部の少なくともいずれかに、水素原子、及び水酸基の少なくともいずれかを有することを特徴とするグラフェンナノリボン。

IPC (5件)：

C01B 32/182 , C01B 32/194 , H01L 29/861 , H01L 29/868 , H01L 51/05

FI (4件)：

C01B32/182 , C01B32/194 , H01L29/91 F , H01L29/91 G

Fターム (10件)：

4G146AA01 , 4G146AA15 , 4G146AA17 , 4G146AB07 , 4G146AD16 , 4G146AD28 , 4G146CB12 , 4G146CB13 , 4G146CB32 , 4G146CB37

引用特許：

審査官引用 (4件)

ショットキーバリアダイオード及び電子装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2016-108177 出願人：富士通株式会社
化合物、化合物の製造方法及びグラフェンナノリボンの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2017-118618 出願人：富士通株式会社
電子デバイス及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2015-173228 出願人：富士通株式会社

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