ガス分析装置およびガス分析方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：片山修平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-081274
公開番号（公開出願番号）：特開2017-191036
特許番号：特許第6682975号
出願日： 2016年04月14日
公開日（公表日）： 2017年10月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】チャンバと、前記チャンバ内に設けられ、Sn,W,Zn及びInの少なくともいずれかを主材料とする酸化物半導体、またはCを主材料とする半導体である第1の感ガス材を備える第1ガスセンサと、前記チャンバ内に設けられ、CuもしくはAgのハロゲン化物または酸化物を主材料とする第2の感ガス材を備える第2ガスセンサと、前記第1の感ガス材の抵抗変化および前記第2の感ガス材の各抵抗変化を測定する測定部と、前記第1の感ガス材の抵抗変化及び前記第2の感ガス材の抵抗変化に基づく主成分分析により主成分スコアを算出し、前記第1の感ガス材のガスに対する応答に関する第1固有ベクトルと前記主成分スコアとを乗算した値に基づいて還元性ガスの濃度を算出し、前記第2の感ガス材のガスに対する応答に関する第2固有ベクトルと前記主成分スコアとを乗算した値に基づいて塩基性ガスの濃度を算出する演算部と、を備えることを特徴とするガス分析装置。

IPC (1件)：

G01N 27/12 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G01N 27/12 C , G01N 27/12 D

引用特許：

審査官引用 (5件)

ガスセンサ
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-138930 出願人：日本特殊陶業株式会社
ガス識別方法とガス識別装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-335279 出願人：エヌオーケー株式会社
ガスの混合物の分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-155448 出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー

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引用文献：

審査官引用 (4件)

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