特許
J-GLOBAL ID:202003015780162326
水分検出素子製造方法、水崩壊性配線膜製造方法、水崩壊性薄膜製造方法、水分検出素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
石島 茂男
, 阿部 英樹
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-094874
公開番号(公開出願番号):特開2017-203666
特許番号:特許第6726523号
出願日: 2016年05月10日
公開日(公表日): 2017年11月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】 アルミニウムに少なくともインジウム又はビスマスのいずれか一方又は両方から成る添加物が添加されたアルミニウム合金を、溶融し、投射する溶射法によって前記アルミニウム合金の溶滴を金属板上に付着させ、水崩壊性溶射物を形成する溶射工程と、
成膜対象物を真空槽内に搬入し、前記真空槽内に配置された前記水崩壊性溶射物をスパッタリング雰囲気中でスパッタリングし、前記成膜対象物の表面に、水崩壊性薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記水崩壊性薄膜を部分的に除去し、残存する前記水崩壊性薄膜から所定パターンの水崩壊性配線膜を形成する加工工程と、
を有し、
前記水崩壊性配線膜の少なくとも一部は、水分が接触して崩壊可能にされた水分検出素子を製造する水分検出素子製造方法。
IPC (5件):
G01N 27/04 ( 200 6.01)
, C23C 4/08 ( 201 6.01)
, C23C 14/34 ( 200 6.01)
, C23C 14/14 ( 200 6.01)
, G01N 27/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
G01N 27/04 B
, C23C 4/08
, C23C 14/34 A
, C23C 14/14 B
, G01N 27/00 L
引用特許:
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