特許
J-GLOBAL ID:202003016737935946

表面増強ラマン散乱分析用基板、その製造方法およびその使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-058326
公開番号(公開出願番号):特開2017-173084
特許番号:特許第6648888号
出願日: 2016年03月23日
公開日(公表日): 2017年09月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基材と、前記基材の表面に位置するスラブ材と、少なくとも前記スラブ材上に位置する金属材料とを含み、被験物質の光学応答を増強させる表面増強ラマン分析用基板であって、 前記基材は、少なくとも前記スラブ材と接する表面層を備え、 前記スラブ材は、前記表面層の屈折率よりも高い屈折率を有する材料からなり、前記スラブ材の表面から前記基材の前記表面層に達する、周期的に配列した複数の穴を有し、 前記金属材料は、前記スラブ材の表面、および、前記複数の穴のそれぞれを介した前記基材の表面層上に位置し、相補的な金属構造を有し、 前記複数の穴は、2以上の異なる直径を有し、かつ/または、2以上の異なる周期で配列されており、 前記複数の穴の直径および周期によって決定される複数の共鳴を有する、基板。
IPC (1件):
G01N 21/65 ( 200 6.01)
FI (1件):
G01N 21/65
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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