特許
J-GLOBAL ID：202003017112731109

凹凸体製造方法及び凹凸体

発明者：
中西 義孝

中西 義孝 について

, 
中島 雄太

中島 雄太 について


出願人/特許権者：
国立大学法人 熊本大学

国立大学法人 熊本大学 について


代理人 (2件)： 羽立 幸司 ,  峰 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-178900
公開番号（公開出願番号）：特開2020-049562
出願日： 2018年09月25日
公開日（公表日）： 2020年04月02日
要約：
【課題】 本発明は、汚れが付着しにくい表面を有する構造体を製造する方法等を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の第1の観点は、表面に凹凸形状を有する凹凸体を製造する凹凸体製造方法であって、基板の上に、マスク層を成形するマスク工程と、前記マスク層に覆われていない非マスク部表面及び前記マスク層に覆われたマスク層表面に対して垂直方向から粒子を衝突させ、前記マスク層がなくなるまで研磨する研磨工程とを含む凹凸体製造方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
表面に凹凸形状を有する凹凸体を製造する凹凸体製造方法であって、 基板の上に、マスク層を成形するマスク工程と、 前記マスク層に覆われていない非マスク部表面及び前記マスク層に覆われたマスク層表面に対して垂直方向から粒子を衝突させ、前記マスク層がなくなるまで研磨する研磨工程とを含む凹凸体製造方法。
IPC (3件)：
B24C 1/04 ,  C03C 19/00 ,  B29C 59/00
FI (4件)：
B24C1/04 B ,  C03C19/00 A ,  B24C1/04 E ,  B29C59/00 E
Fターム (24件)：
4F209AA01 ,  4F209AA11 ,  4F209AA13 ,  4F209AA21 ,  4F209AA29 ,  4F209AA45 ,  4F209AC03 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH42 ,  4F209AR12 ,  4F209AR20 ,  4F209PA01 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PG14 ,  4F209PH21 ,  4F209PQ09 ,  4F209PQ20 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AB06 ,  4G059AC02
引用特許：
審査官引用 (7件)
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