特許
J-GLOBAL ID:202003018270720501
紫外線処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
藤本 信男
, 大城 重信
, 山田 益男
, 重信 圭介
, 大井 正彦
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-078744
公開番号(公開出願番号):特開2017-191811
特許番号:特許第6733274号
出願日: 2016年04月11日
公開日(公表日): 2017年10月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 紫外線を放射する紫外線ランプと、
平板状の被処理物の下面に接して当該被処理物を支持する保持部材と、
前記被処理物の下面における被処理領域に紫外線を照射する紫外線照射口を有する支持台と、
前記紫外線照射口を覆う紫外線透過性窓部材とを備える紫外線処理装置であって、
前記紫外線透過性窓部材が周縁部を有し、当該周縁部が前記支持台と枠部材とに挟持されることにより紫外線透過性窓部材が当該支持台に固定され、
当該周縁部が前記被処理物の被処理領域より外方に位置し、
前記紫外線透過性窓部材は、
前記周縁部以外の平面部を有し、当該平面部に設けられた、被処理物の被処理領域に対応する領域を包含する矩形の平面領域の一辺およびこれに連続する二辺に沿って、当該平面領域より突出した状態で伸びる平板部分と、
前記平面領域の前記一辺に沿って設けられた処理ガス供給口と、
前記平面領域の前記一辺と対向する他辺に、前記被処理物が載置されることにより形成される処理ガス排出口とを有することを特徴とする紫外線処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B08B 7/00 ( 200 6.01)
, B01J 19/12 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01L 21/30 572 A
, H01L 21/30 502 D
, B08B 7/00
, B01J 19/12 C
引用特許:
審査官引用 (8件)
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光処理装置および光処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-016127
出願人:ウシオ電機株式会社
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光照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-119266
出願人:ウシオ電機株式会社
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光処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-039462
出願人:ウシオ電機株式会社
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光照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2013-270905
出願人:ウシオ電機株式会社
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特開平4-206723
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特開平4-010622
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真空紫外光処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-189562
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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紫外線処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2015-170002
出願人:ウシオ電機株式会社
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