特許
J-GLOBAL ID:201503013346797345
光照射装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大井 正彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-270905
公開番号(公開出願番号):特開2015-126162
出願日: 2013年12月27日
公開日(公表日): 2015年07月06日
要約:
【課題】処理室において必要とされる雰囲気を確保することができ、従って被処理物を効率よく短時間で処理することのできる光照射装置を提供すること。【解決手段】光照射装置は、処理室に対して、活性種源を含有する処理用ガスを供給する処理用ガス供給手段、およびランプ室に対して、ランプ室雰囲気用ガスを供給するランプ室雰囲気用ガス供給手段が設けられており、前記ランプ室は、ランプ室用筺体の開口部が、ランプ室用シール部材を介して光透過性窓によって閉塞されることにより、当該光透過性窓の一面側に形成されており、前記処理室は、処理室用筺体の開口部が、前記光透過性窓によって閉塞されることにより、当該光透過性窓の他面側に形成されていることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被処理物が配置される処理室と、当該被処理物に対して光透過性窓を介して紫外線を照射する紫外線放射ランプが配置されたランプ室とを有しており、
前記処理室に対して、活性種源を含有する処理用ガスを供給する処理用ガス供給手段、および前記ランプ室に対して、ランプ室雰囲気用ガスを供給するランプ室雰囲気用ガス供給手段が設けられてなる光照射装置において、
前記ランプ室は、ランプ室用筺体の開口部が、ランプ室用シール部材を介して前記光透過性窓によって閉塞されることにより、当該光透過性窓の一面側に形成されており、
前記処理室は、処理室用筺体の開口部が、前記光透過性窓によって閉塞されることにより、当該光透過性窓の他面側に形成されていることを特徴とする光照射装置。
IPC (4件):
H01L 21/304
, H01L 21/306
, B08B 7/00
, H01L 21/027
FI (4件):
H01L21/304 645D
, H01L21/302 104H
, B08B7/00
, H01L21/30 572A
Fターム (35件):
3B116AA02
, 3B116AA03
, 3B116AB42
, 3B116BC01
, 3B116CD31
, 3B116CD42
, 3B116CD43
, 5F004AA09
, 5F004AA16
, 5F004BA20
, 5F004BB05
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BC01
, 5F004BD01
, 5F004CA02
, 5F004DB26
, 5F146MA13
, 5F157AA02
, 5F157AA64
, 5F157AB02
, 5F157AB13
, 5F157AB33
, 5F157BG03
, 5F157BG04
, 5F157BG44
, 5F157BG46
, 5F157BH15
, 5F157BH21
, 5F157CE28
, 5F157CF24
, 5F157CF42
, 5F157CF62
, 5F157DB02
, 5F157DB45
引用特許:
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