特許
J-GLOBAL ID：202003018741636476

修飾ポリエチレンイミン及びその製造方法

発明者：
古荘 義雄

古荘 義雄 について

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小島 秀人

小島 秀人 について

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寺島 智也

寺島 智也 について

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相馬 大貴

相馬 大貴 について

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中江 由希

中江 由希 について


出願人/特許権者：
国立大学法人滋賀医科大学

国立大学法人滋賀医科大学 について


代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-090841
公開番号（公開出願番号）：特開2020-186297
出願日： 2019年05月13日
公開日（公表日）： 2020年11月19日
要約：
【課題】核酸の導入効率が高く且つ細胞毒性が低い修飾ポリエチレンイミンを提供する。【解決手段】以下の基を有する修飾ポリエチレンイミン。〔式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、モノ若しくはジ置換アミノ、ニトロ、シアノ、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、又はヘテロアラルキルを示し、該R1及びR2を構成するアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、又はヘテロアリールは、アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、モノ若しくはジ置換アミノ、ニトロ、及びシアノから選択される少なくとも1種で置換されていてもよく、ただし、該R1及びR2が共に水素である場合を除き、R1及びR2の一方がエチルであり他方がジメチルアミノプロピルである場合はポリエチレンイミンの分子量は25,000 Da未満である。〕【選択図】なし
請求項（抜粋）：
以下の基を有する修飾ポリエチレンイミン。
IPC (11件)：
C08G 73/04 ,  A61K 31/713 ,  A61K 48/00 ,  A61K 47/66 ,  A61K 47/64 ,  A61P 35/00 ,  A61K 38/02 ,  A61K 39/395 ,  A61K 31/708 ,  A61K 47/34 ,  A61K 47/56
FI (11件)：
C08G73/04 ,  A61K31/713 ,  A61K48/00 ,  A61K47/66 ,  A61K47/64 ,  A61P35/00 ,  A61K38/02 ,  A61K39/395 D ,  A61K31/7088 ,  A61K47/34 ,  A61K47/56
Fターム (26件)：
4C076AA95 ,  4C076EE25 ,  4C076EE41 ,  4C076EE59 ,  4C076FF34 ,  4C084AA02 ,  4C084AA13 ,  4C084BA03 ,  4C084BA42 ,  4C084MA05 ,  4C084NA13 ,  4C084ZB26 ,  4C085AA13 ,  4C085EE03 ,  4C085EE05 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086EA16 ,  4C086MA02 ,  4C086MA05 ,  4C086NA13 ,  4C086ZB26 ,  4J043QA04 ,  4J043YB31 ,  4J043ZA60 ,  4J043ZB60
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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