特許
J-GLOBAL ID：202003018749503394
測定用基材及びその製造方法、並びに発光分光分析装置及び発光分光分析方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 広明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-099115
公開番号（公開出願番号）：特開2020-193855
出願日： 2019年05月28日
公開日（公表日）： 2020年12月03日
要約：
【課題】たとえ被測定対象となる液量が少ない場合であっても、レーザーが照射されたときに該被測定対象が有する元素の発光線強度を高感度に検出することが可能となる、測定用基材、発光分光分析装置及び発光分光分析方法を提供する。【解決手段】 本発明の1つの測定用基材100は、少なくとも最上層にシリコン層が形成されている基材30の該シリコン層が、深さを開口幅で除して得られるアスペクト比が3.5以上の非貫通孔10を含む多孔性の表面を有する。また、この測定用基材100は、非貫通孔10の少なくとも一部を覆うように配置された被測定対象40に対してレーザー光が照射されたときに被測定対象40が有する元素の発光線強度を測定するための測定用基材である。【選択図】図4C
請求項（抜粋）：
少なくとも最上層にシリコン層が形成されている基材の前記シリコン層が、深さを開口幅で除して得られるアスペクト比が3.5以上の非貫通孔を含む多孔性の表面を有する、
前記非貫通孔の少なくとも一部を覆うように配置された被測定対象に対してレーザー光が照射されたときに該被測定対象が有する元素の発光線強度を測定するための、
測定用基材。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
2G043AA01
, 2G043BA07
, 2G043CA02
, 2G043CA03
, 2G043EA06
, 2G043EA10
, 2G043GA07
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA09
, 2G043JA02
, 2G043KA01
, 2G043KA02
, 2G043KA05
, 2G043LA01
