特許
J-GLOBAL ID:202003019486600167
クラスター担持触媒及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (5件):
青木 篤
, 三橋 真二
, 鶴田 準一
, 伊藤 公一
, 関根 宣夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-176575
公開番号(公開出願番号):特開2020-044516
出願日: 2018年09月20日
公開日(公表日): 2020年03月26日
要約:
【課題】低温活性、高選択性、高被毒耐性、及び高耐久性を有する触媒及びその製造方法を提供する。【解決手段】シリコンカーバイド担体及びシリコンカーバイド担体に担持されている貴金属クラスターを有するクラスター担持触媒、及び当該触媒を製造する方法であって、貴金属ターゲットに対してスパッタリングを行うことにより、貴金属クラスターを発生させ、そして発生させた貴金属クラスターを、シリコンカーバイド担体の表面に衝突させて担持させることを含む、クラスター担持触媒の製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
シリコンカーバイド担体、及び前記シリコンカーバイド担体に担持されている貴金属クラスターを有する、クラスター担持触媒。
IPC (12件):
B01J 27/224
, B01J 37/02
, C23C 14/14
, C23C 14/06
, C23C 14/02
, B01D 53/94
, F01N 3/10
, F01N 3/28
, H01M 4/86
, H01M 4/92
, B01J 35/02
, C23C 14/00
FI (14件):
B01J27/224 A
, B01J27/224 M
, B01J37/02 301P
, C23C14/14 D
, C23C14/06 F
, C23C14/02 Z
, B01D53/94 222
, B01D53/94 245
, F01N3/10 A
, F01N3/28 301P
, H01M4/86 B
, H01M4/92
, B01J35/02 H
, C23C14/00 A
Fターム (64件):
3G091AA18
, 3G091AB03
, 3G091BA02
, 3G091BA11
, 3G091BA39
, 3G091GA16
, 3G091GB04W
, 3G091GB06W
, 4D148AA06
, 4D148AA13
, 4D148AB01
, 4D148AB08
, 4D148BA03X
, 4D148BA06X
, 4D148BA08X
, 4D148BA19X
, 4D148BA30X
, 4D148BA31X
, 4D148BA33X
, 4D148BA41X
, 4D148BA45X
, 4D148DA03
, 4D148DA05
, 4D148DA06
, 4D148DA08
, 4D148DA20
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA13A
, 4G169BA13B
, 4G169BC71A
, 4G169BC71B
, 4G169BC72A
, 4G169BC72B
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169BD04A
, 4G169BD04B
, 4G169BD05A
, 4G169BD05B
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CA07
, 4G169CA13
, 4G169CA14
, 4G169CC32
, 4G169FA02
, 4G169FB02
, 4K029AA04
, 4K029BA13
, 4K029BA34
, 4K029BD03
, 4K029CA01
, 4K029CA05
, 4K029DB02
, 4K029DC03
, 4K029DC34
, 4K029FA06
, 5H018AA01
, 5H018BB07
, 5H018EE03
, 5H018EE11
, 5H018EE12
, 5H018HH01
引用特許:
引用文献:
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