特許
J-GLOBAL ID:202003019486600167

クラスター担持触媒及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  三橋 真二 ,  鶴田 準一 ,  伊藤 公一 ,  関根 宣夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-176575
公開番号(公開出願番号):特開2020-044516
出願日: 2018年09月20日
公開日(公表日): 2020年03月26日
要約:
【課題】低温活性、高選択性、高被毒耐性、及び高耐久性を有する触媒及びその製造方法を提供する。【解決手段】シリコンカーバイド担体及びシリコンカーバイド担体に担持されている貴金属クラスターを有するクラスター担持触媒、及び当該触媒を製造する方法であって、貴金属ターゲットに対してスパッタリングを行うことにより、貴金属クラスターを発生させ、そして発生させた貴金属クラスターを、シリコンカーバイド担体の表面に衝突させて担持させることを含む、クラスター担持触媒の製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
シリコンカーバイド担体、及び前記シリコンカーバイド担体に担持されている貴金属クラスターを有する、クラスター担持触媒。
IPC (12件):
B01J 27/224 ,  B01J 37/02 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/02 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/28 ,  H01M 4/86 ,  H01M 4/92 ,  B01J 35/02 ,  C23C 14/00
FI (14件):
B01J27/224 A ,  B01J27/224 M ,  B01J37/02 301P ,  C23C14/14 D ,  C23C14/06 F ,  C23C14/02 Z ,  B01D53/94 222 ,  B01D53/94 245 ,  F01N3/10 A ,  F01N3/28 301P ,  H01M4/86 B ,  H01M4/92 ,  B01J35/02 H ,  C23C14/00 A
Fターム (64件):
3G091AA18 ,  3G091AB03 ,  3G091BA02 ,  3G091BA11 ,  3G091BA39 ,  3G091GA16 ,  3G091GB04W ,  3G091GB06W ,  4D148AA06 ,  4D148AA13 ,  4D148AB01 ,  4D148AB08 ,  4D148BA03X ,  4D148BA06X ,  4D148BA08X ,  4D148BA19X ,  4D148BA30X ,  4D148BA31X ,  4D148BA33X ,  4D148BA41X ,  4D148BA45X ,  4D148DA03 ,  4D148DA05 ,  4D148DA06 ,  4D148DA08 ,  4D148DA20 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA13A ,  4G169BA13B ,  4G169BC71A ,  4G169BC71B ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169BD04A ,  4G169BD04B ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA13 ,  4G169CA14 ,  4G169CC32 ,  4G169FA02 ,  4G169FB02 ,  4K029AA04 ,  4K029BA13 ,  4K029BA34 ,  4K029BD03 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DB02 ,  4K029DC03 ,  4K029DC34 ,  4K029FA06 ,  5H018AA01 ,  5H018BB07 ,  5H018EE03 ,  5H018EE11 ,  5H018EE12 ,  5H018HH01
引用特許:
審査官引用 (7件)
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引用文献:
審査官引用 (3件)

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