生体応用向けの自立膜を作製するための方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：園田・小林特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-516550
公開番号（公開出願番号）：特表2020-534009
出願日： 2018年09月11日
公開日（公表日）： 2020年11月26日
要約：

指向性自己集合を使用して、適切に制御されたナノポアを製造する方法、及び選択的エッチングを使用して自立膜を製造する方法が、開示される。一態様では、フィーチャの限界寸法を縮小するために、一又は複数のナノポアが、ブロックコポリマーを用いて、直接自己集合により形成される。フィーチャはその後、薄膜に転写される。別の態様では、方法は、高度にエッチング可能な層の上に薄膜を有している、基板を提供することと、高度にエッチング可能な層の上の薄膜を通して、一又は複数のナノポアを、例えばポア径縮小プロセスによって形成することと、次いで、薄型の自立膜を形成するために、高度にエッチング可能な層の、一又は複数のナノポアの下の部分を選択的に除去することとを、含む。【選択図】図2K

請求項（抜粋）：

基板を形成するための方法であって、高度にエッチング可能な層の上に薄膜を有している、基板を提供することと、前記高度にエッチング可能な層の上の前記薄膜を通して、一又は複数のナノポアを形成することと、自立膜を形成するために、前記高度にエッチング可能な層の、前記一又は複数のナノポアの下の部分を選択的に除去することとを含む、方法。

IPC (3件)：

C12M 1/00 , B82Y 40/00 , B82Y 5/00

FI (3件)：

C12M1/00 A , B82Y40/00 , B82Y5/00

Fターム (3件)：

4B029AA23 , 4B029BB20 , 4B029CC01

引用特許：

出願人引用 (1件)

ポリマの指向性自己組織化を利用するサブリソグラフィ構造の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-102303 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

審査官引用 (1件)

ポリマの指向性自己組織化を利用するサブリソグラフィ構造の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-102303 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

引用文献：

出願人引用 (3件)

審査官引用 (3件)

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