特許
J-GLOBAL ID：202003020479626078
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-071028
公開番号（公開出願番号）：特開2017-183596
特許番号：特許第6650323号
出願日： 2016年03月31日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理液により基板を処理する基板処理装置であって、
基板を保持するチャックと、
前記チャックに保持された基板の主面を含む平面に対向し、処理液の液滴を前記平面に向けて噴射するノズルを有する液処理部と、
前記ノズルを前記基板の主面に沿って前記基板に対して相対的に移動可能な移動機構と、
前記ノズルが前記基板の主面に沿って前記基板の主面を相対的に走査する移動経路であって、それぞれの移動経路の走査方向が互いに異なる方向になるように定められた3つ以上の移動経路を設定する移動経路設定部と、
前記移動機構及び前記液処理部を制御して、前記ノズルを前記基板の主面に対して相対的に走査させつつ、前記ノズルから前記基板の主面に対して処理液の液滴を噴射する動作を、前記移動経路設定部によって設定された3つ以上の移動経路について順次実行させる制御部と、
を備え、
前記3つ以上の移動経路のそれぞれの前記基板の主面上への各正射影のうち前記基板の主面の任意の一点を通過する正射影の個数が2個以下である、基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B05D 1/02 ( 200 6.01)
, B05B 13/04 ( 200 6.01)
H01L 21/30 564 Z
, B05D 1/02 Z
, B05B 13/04
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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