特許
J-GLOBAL ID：202003021015957990

反射基板の製造方法及び反射基板

発明者：
堀内 貞男

堀内 貞男 について


出願人/特許権者：
シチズン時計株式会社

シチズン時計株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人SSINPAT
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-043325
公開番号（公開出願番号）：特開2016-170410
特許番号：特許第6726486号
出願日： 2016年03月07日
公開日（公表日）： 2016年09月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 球状の無機粒子を用いて、粉末噴射コーティング法により、ベース基板上の少なくとも一部の領域に反射層を形成する工程を有し、 前記球状の無機粒子の70%以上(個数基準)が、粒子径が20〜60μmの範囲にある粒子である、 反射基板の製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/08 ( 200 6.01) ,  H01L 33/60 ( 201 0.01)
FI (3件)：
G02B 5/08 A ,  H01L 33/60 ,  G02B 5/08 C
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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