特許
J-GLOBAL ID:202003021239570055
流体測定装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山川 茂樹
, 小池 勇三
, 山川 政樹
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-075693
公開番号(公開出願番号):特開2017-187359
特許番号:特許第6737621号
出願日: 2016年04月05日
公開日(公表日): 2017年10月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】 複数の散乱体を含む流体に可干渉光を照射する光源と、
可干渉光の照射により前記流体に含まれる前記散乱体で散乱された光を受光して光電変換する受光部と、
前記受光部で光電変換された電気信号の低周波成分および高周波成分を取り出す信号取り出し部と、
前記信号取り出し部が取り出した高周波成分をもとに前記流体の流速に相関する特徴量を算出する特徴量算出部と、
前記信号取り出し部が取り出した低周波成分をもとに較正パラメータを算出する較正値算出部と、
前記較正パラメータで前記特徴量を較正して前記流体の流速および流量の少なくとも1つを算出する較正部と
を備え、
前記較正パラメータは、オフセット較正パラメータおよびゲイン較正パラメータを含み、
前記較正値算出部は、
前記低周波成分の平均値より求められる平均受光量<I>および係数パラメータA,B(A>0,B≧0)を用いてA×<I>+Bにより前記オフセット較正パラメータを求め、
平均受光量<I>および係数パラメータC,D,E,F(C>0,D≧0,E>0,F>0)を用いてF/(C×<I>E-D)により前記ゲイン較正パラメータを求め、
前記較正部は、前記特徴量より前記オフセット較正パラメータを減じた値に前記ゲイン較正パラメータを乗じる
ことを特徴とする流体測定装置。
IPC (2件):
G01F 1/66 ( 200 6.01)
, G01P 5/26 ( 200 6.01)
FI (2件):
G01F 1/66 103
, G01P 5/26 A
引用特許: