研究者
J-GLOBAL ID:202101001858792606   更新日: 2024年11月18日

鈴木 健太

スズキ ケンタ | Suzuki Kenta
所属機関・部署:
研究分野 (2件): ナノマイクロシステム ,  加工学、生産工学
研究キーワード (1件): 光ナノインプリント(気泡欠陥除去、アライメント)、微細配線、光実装
競争的資金等の研究課題 (6件):
  • 2022 - 2025 ナノ成形構造体と自己組織化成膜技術の融合によるナノ構造体形状制御に関する研究
  • 2021 - 2024 積層化金属ナノ構造を利用した極薄光アイソレータの研究開発
  • 2019 - 2022 混合凝縮性ガスと微小液滴を用いた超高速光ナノインプリントに関する研究
  • 2017 - 2019 混合凝縮性ガスを導入する光ナノインプリント技術の開発
  • 2016 - 2019 マイクロデバイスの高気密封止のための金属の常温接合に関する研究
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論文 (39件):
  • Kenta Suzuki, Sung-Won Youn, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi, Hiromi Hiura, Noriyasu Hasegawa, Kiyohito Yamamoto. Electrical evaluation of copper damascene interconnects based on nanoimprint lithography compared with ArF immersion lithography for back-end-of-line process. Japanese Journal of Applied Physics. 2024
  • Sung-Won Youn, Kenta Suzuki, Hiroshi Hiroshima, Shunichi Toda, Satoshi Nagai. Development of electron beam lithography technique for large area nano structural color. Japanese Journal of Applied Physics. 2024
  • Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi, Hiromi Hiura, Noriyasu Hasegawa, Kiyohito Yamamoto. Open/short-TEG evaluation of 24 nm-half-pitch-W damascene interconnects based on nanoimprint lithography. NOVEL PATTERNING TECHNOLOGIES 2024. 2024. 12956
  • Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiro Hayashi, Masaki Ishida, Tomomi Funayoshi, Hiromi Hiura, Noriyasu Hasegawa, Kiyohito Yamamoto. Feature-size Control by Pattern Transfer Etching in Nanoimprint Lithography for Half-pitch 24 nm Damascene Interconnect. JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2024. 37. 5. 449-456
  • Kenta Suzuki, Tetsuya Ueda, Hiroshi Hiroshima, Yoshihiro Hayashi. Application of Self-aligned Quadruple Patterning to Fabrication of Nanoimprint Mold with Sub-12-nm Half-pitch. JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2024. 37. 5. 475-480
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MISC (33件):
  • YOUN Sung-Won, SUZUKI Kenta, HIROSHIMA Hiroshi. ウェハレベルナノインプリント技術の開発と実装技術への応用に関する研究. バイオメカニクス研究センター&エレクトロニクス実装学会九州支部合同研究会. 2019. 7th (CD-ROM)
  • 鈴木健太, 尹成園. 凝縮性ガス下でのナノインプリントにおけるモールド全域の樹脂の充填観察. 精密工学会大会学術講演会講演論文集. 2019. 2019
  • 鈴木健太, 尹成圓, 廣島洋. 光ナノインプリント樹脂への凝縮性ガスの溶解性の評価. エレクトロニクス実装学会講演大会講演論文集(CD-ROM). 2019. 33rd
  • 鈴木聡, 鈴木聡, 鈴木健太, 廣島洋, 菅洋志. スパッタ/反応性イオンエッチングによるマイクロ流路底面へのナノ構造形成法. 日本機械学会関東支部総会・講演会講演論文集(CD-ROM). 2019. 25th
  • 鈴木健太, 天野建, 乗木暁博. UVナノインプリントによる球面ミラー付きポリマー光導波路の試作. Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics. 2018. 24th
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特許 (5件):
受賞 (2件):
  • 2024/11 - 36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023) MNC2023 Outstanding Paper賞 Electrical evaluation of copper damascene interconnects based on nanoimprint lithography compared with ArF immersion lithography for back-end-of-line process
  • 2018/03 - エレクトロニクス実装学会 研究奨励賞 気泡欠陥防止のためのハイドロフルオロオレフィンガス雰囲気下でのUVナノインプリント技術
所属学会 (2件):
エレクトロニクス実装学会 ,  応用物理学会
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