文献

J-GLOBAL ID：202102221008749361   整理番号：21A0439523

混合粉末ターゲットを用いた一段階プロセススパッタリング堆積による多元素混合物薄膜の作製【JST・京大機械翻訳】

Preparation of Multielements Mixture Thin Film by One-Step Process Sputtering Deposition Using Mixture Powder Target

著者 (5件)： Kawasaki Hiroharu (Electrical Engineering Department, Sasebo National College of Technology, Sasebo, Japan) ,  Ohshima Tamiko (Electrical Engineering Department, Sasebo National College of Technology, Sasebo, Japan) ,  Yagyu Yoshihito (National Institute of Technology, Sasebo College, Sasebo, Japan) ,  Ihara Takeshi (Department of Electrical and Electronic Engineering, Sasebo National College of Technology, Sasebo, Japan) ,  Suda Yoshiaki (National Institute of Technology, Ishikawa College, Ishikawa, Japan)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 49  号： 1  ページ： 48-52  発行年： 2021年 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： インジウム,ガリウム,亜鉛,および酸素の混合物から成る薄膜を,液晶および/またはエレクトロルミネセンスディスプレイ用の透明導電膜として使用するために作製した。薄膜は,酸化インジウム,酸化ガリウム,および酸化亜鉛の種々の比率を有する混合粉末ターゲットを用いたスパッタリング蒸着法によって,一段階で製造された。膜の堆積速度はターゲットの組成に強く依存した。X線光電子分光法の結果は,混合インジウム,ガリウム,亜鉛,および酸素薄膜が調製でき,それらの元素濃度比が粉末ターゲットの濃度比によって制御されることを明らかにした。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 液晶 ,  *薄膜 ,  *粉体 ,  亜鉛 ,  インジウム ,  ガリウム ,  酸素 ,  酸化亜鉛 ,  堆積速度 ,  酸化インジウム ,  酸化ガリウム ,  薄膜成長 ,  *スパッタ蒸着 ,  X線光電子分光法 ,  ELディスプレイ ,  透明導電膜

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  プラズマ生成・加熱  (BJ02060E)

タイトルに関連する用語 (9件)： 混合粉末 ,  ターゲット ,  段階 ,  プロセス ,  スパッタリング堆積 ,  元素 ,  混合物 ,  薄膜 ,  作製