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J-GLOBAL ID：202102232450951525   整理番号：21A0332131

Mn-Al合金薄膜のL1₀規則相形成に及ぼすCr下地層,成長温度,組成の影響

Influences of Cr Underlayer, Growth Temperature, and Composition on the Formation of L1₀ Ordered Phase in Mn-Al Alloy Thin Film

著者 (7件)： 中野光太郎 (横浜国大 大学院工学研究院) ,  野呂翔太 (横浜国大 大学院工学研究院) ,  大竹充 (横浜国大 大学院工学研究院) ,  二本正昭 (横浜国大 大学院工学研究院) ,  川井哲郎 (横浜国大 大学院工学研究院) ,  桐野文良 (東京藝術大 大学院美術研究科) ,  稲葉信幸 (山形大 大学院理工学研究科)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告(Web)  (IEICE Technical Report (Web))
巻： 120  号： 274(MRIS2020 5-10)  ページ： 1-5 (WEB ONLY)  発行年： 2020年11月26日 
JST資料番号： U2030A  ISSN： 2432-6380  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Mn_xAl_100-x(x=35~100at.%)合金薄膜を室温から500°Cで(001)単結晶基板上に成長させ,膜成長を反射高速電子回折によるその場観察により調べた.基板にはMgOを用い,基板上に直接Mn-Al合金膜を形成した試料に加え,Cr(001)単結晶下地層を基板上にヘテロエピタキシャル成長させ,その上にMn-Al合金膜を形成した試料を準備した.下地層の有無に関わらず,Mnリッチ組成を用いることにより,L1₀規則相の形成が促進された.一方,L1₀規則相が形成される膜成長温度の傾向は,下地層の導入で変化した.基板上に直接Mn-Al合金膜を形成する場合,400°C以下で成長させた膜はA12相から構成され,500°Cで成長させた膜ではA12相に加えてL1₀相が形成された.それに対して,400°C以下でCr下地層上に成長させた膜では,L1₀規則相のみが得られた.また,Cr下地層の導入は,L1₀規則相が形成される組成域を拡大させた.そして,L1₀構造を持つMn_xAl_100-x(x=58~75)合金膜で,デバイス応用に適する算術平均粗さが0.3nmの良好な平坦性を持つ表面が実現された.(著者抄録)

シソーラス用語： アルミニウム合金 ,  マンガン合金 ,  金属薄膜 ,  エピタクシー ,  単結晶 ,  *MRAM ,  *硬磁性材料 ,  合金薄膜
準シソーラス用語： エピタキシャル成長 ,  *磁気抵抗メモリ

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (22件)：

• A. Sakuma: J. Phys. Soc. Jpn., vol. 63, pp. 1422-1428 (1994).
• J. H. Park, Y. K. Hong, S. Bae, J. J. Lee, J. Jalli, G. S. Abo, N. Neveu, S. G. Kim, C. J. Choi, and J. G. Lee: J. Appl. Phys., vol. 107, pp. 09A731_1-3 (2010).
• M. Hosoda, M. Oogane, M. Kubota, T. Kubota, H. Saruyama, S. Iihama, H. Naganuma, and Y. Ando: J. Appl. Phys., vol. 111, pp. 07A324_1-3 (2012).
• S. -W. Mao, J. Lu, L. Yang, X. -Z. Ruan, H. -L. Wang, D. -H. Wei, Y. -B. Xu, and J. -H. Zhao: Chinese Phys. Lett., vol. 37, pp. 058501_1-5 (2020).
• T. B. Massalski and H. Okamoto: Binary Alloy Phase Diagrams (ASM International, Ohio, 1990).

タイトルに関連する用語 (8件)： Mn ,  Al ,  合金薄膜 ,  規則相 ,  Cr ,  下地層 ,  成長温度 ,  組成