文献

J-GLOBAL ID：202102233311887401   整理番号：21A0221933

面積選択的プロセスに向けたイソプロピルアルコール処理による銅および酸化銅表面状態の修飾【JST・京大機械翻訳】

Modification of copper and copper oxide surface states due to isopropyl alcohol treatment toward area-selective processes

著者 (11件)： Mawaki Takezo (Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-11 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, 980-8579, Japan) ,  Teramoto Akinobu (Hiroshima University, Research Institute for Nanodevice and Bio Systems, 1-4-2 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima, Hiroshima 739-8527, Japan) ,  Ishii Katsutoshi (Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 650 Mitsuzawa, Hosaka-cho, Nirasaki, Yamanashi 407-0192, Japan) ,  Shiba Yoshinobu (New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Kuroda Rihito (Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-11 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, 980-8579, Japan) ,  Suwa Tomoyuki (New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Azumo Shuji (Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 650 Mitsuzawa, Hosaka-cho, Nirasaki, Yamanashi 407-0192, Japan) ,  Shimizu Akira (Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 650 Mitsuzawa, Hosaka-cho, Nirasaki, Yamanashi 407-0192, Japan) ,  Umezawa Kota (Tokyo Electron Technology Solutions Ltd., 650 Mitsuzawa, Hosaka-cho, Nirasaki, Yamanashi 407-0192, Japan) ,  Shirai Yasuyuki (New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Sugawa Shigetoshi (New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 39  号： 1  ページ： 013403-013403-10  発行年： 2021年 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イソプロピルアルコール(IPA)ガスによる酸化銅の還元とその機構を銅(Cu)配線の選択プロセスに対して調べた。また,IPAガスの分解挙動とCuと酸化銅表面のIPA処理中の表面修飾を研究した。2つの試料を測定した:自然酸化膜を有するCu表面と水素還元処理後の金属Cu表面。IPAの分解および反応挙動および吸着特性を,Cu反応器およびFourier変換赤外分光法を備えたインライン評価システムを用いて調べた。IPA処理前後のCuと酸化銅表面の化学構造をX線光電子分光法によって分析した。実験に基づいて,Cuプロセス温度範囲におけるIPAガスによる酸化銅の還元を誘起するプロセス条件を同定した。IPAに由来する異なる有機物が各表面に吸着されていることも分かった。Copyright 2021 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *銅 ,  *酸化銅 ,  反応器 ,  X線光電子分光法 ,  表面改質 ,  FTIR分光法 ,  化学構造 ,  水素還元 ,  吸着特性 ,  自然酸化膜 ,  脂肪族アルコール

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

物質索引 (1件)： 2-プロパノール

タイトルに関連する用語 (6件)： 面積 ,  プロセス ,  イソプロピルアルコール ,  銅 ,  酸化銅 ,  修飾